[發明專利]光學系統、光學設備及光學系統的制造方法

在審

• 申請號: 202080059645.6
• 申請日: 2020-08-26
• 公開（公告）號: CN114341696A
• 公開（公告）日: 2022-04-12
• 發明（設計）人: 山下雅史;伊藤智希;栗林知憲;古井田啟吾;三輪哲史;小松原陽子;渡邊勝也;野中杏菜;槙田步
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G02B15/173
• 分類號: G02B15/173;G02B15/177;G02B15/167
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 季瑩;方應星

光學系統(LS)具有滿足以下條件式的透鏡(L11)：?0.010ndLZ?(2.015?0.0068×νdLZ)，50.00νdLZ65.00，0.545θgFLZ，?0.010θgFLZ?(0.6418?0.00168×νdLZ)，其中，ndLZ：透鏡的對d線的折射率，νdLZ：透鏡的以d線為基準的阿貝數，θgFLZ：透鏡的相對部分色散。

技術領域

本發明涉及光學系統、光學設備及光學系統的制造方法。

背景技術

近年來，使用于數碼相機或攝像機等攝像裝置的攝像元件，正在推進高像素化。設置于使用了這種攝像元件的攝像裝置的攝影鏡頭，期望是除了良好地校正球面像差、彗差等基準像差(單一波長的像差)以外，還良好地校正色差以使得在白色光源下沒有像的滲色的、具有高分辨率的鏡頭。特別是，在色差的校正中，除了初級消色差以外，還期望良好地對二階光譜進行校正。作為色差的校正手段，例如，公知有使用具有異常色散性的樹脂材料的方法(例如，參照專利文獻1)。如上所述，伴隨近年來的攝像元件的高像素化，期望良好地對各像差進行校正的攝影鏡頭。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2016-194609號公報

發明內容

本發明的光學系統具有滿足以下條件式的透鏡：

-0.010ndLZ-(2.015-0.0068×νdLZ)

50.00νdLZ65.00

0.545θgFLZ

-0.010θgFLZ-(0.6418-0.00168×νdLZ)

其中，ndLZ：所述透鏡的對d線的折射率

νdLZ：所述透鏡的以d線為基準的阿貝數

θgFLZ：所述透鏡的相對部分色散，在將所述透鏡的對g線的折射率設為ngLZ，將所述透鏡的對F線的折射率設為nFLZ，將所述透鏡的對C線的折射率設為nCLZ時，通過下式進行定義，即，

θgFLZ＝(ngLZ-nFLZ)/(nFLZ-nCLZ)。

本發明的光學設備構成為具備上述光學系統。

本發明的光學系統的制造方法以所述光學系統具有滿足以下條件式的透鏡的方式，在鏡頭鏡筒內配置各透鏡：

-0.010ndLZ-(2.015-0.0068×νdLZ)

50.00νdLZ65.00

0.545θgFLZ

-0.010θgFLZ-(0.6418-0.00168×νdLZ)

其中，ndLZ：所述透鏡的對d線的折射率

νdLZ：所述透鏡的以d線為基準的阿貝數

θgFLZ：所述透鏡的相對部分色散，在將所述透鏡的對g線的折射率設為ngLZ，將所述透鏡的對F線的折射率設為nFLZ，將所述透鏡的對C線的折射率設為nCLZ時，通過下式進行定義，即，

θgFLZ＝(ngLZ-nFLZ)/(nFLZ-nCLZ)。

附圖說明

圖1是第1實施例的光學系統的無限遠對焦狀態下的鏡頭結構圖。

圖2(A)、圖2(B)以及圖2(C)分別是第1實施例的光學系統的無限遠對焦時、中間距離對焦時、近距離對焦時的各像差圖。

圖3是第2實施例的光學系統的無限遠對焦狀態下的鏡頭結構圖。