[發(fā)明專利]層流限制器

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202080057722.4
• 申請日: 2020-08-05
• 公開（公告）號: CN114586477A
• 公開（公告）日: 2022-06-03
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 肖恩·約瑟夫·彭利;扎卡賴亞·伊齊基爾·麥金太爾;泰勒·詹姆斯·賴特
• 申請（專利權(quán)）人: 艾科系統(tǒng)公司
• 主分類號: H05K7/20
• 分類號: H05K7/20;F21V29/50;F21V29/57;F21V29/60;F21V29/61;F28D9/00;F28F3/00
• 代理公司: 北京京萬通知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11440
• 代理人: 許天易

用于控制氣流的設(shè)備是輸送用于半導(dǎo)體制造的工藝氣體的重要部件。這些用于控制氣流的設(shè)備經(jīng)常依賴于流量限制器，該流量限制器可以提供工藝氣體的已知流動阻抗。在一個實施例中，公開了一種流量限制器，該流量限制器由多個層構(gòu)成，其中一個或多個層具有從該流量限制器的第一端處的第一孔延伸到位于該流量限制器的第二端處的第二孔的流動通道。

相關(guān)申請的交叉引用

本申請要求于2019年8月5日提交的美國臨時專利申請?zhí)?2/882,794的權(quán)益，其全部內(nèi)容通過引用并入本文。

背景技術(shù)

質(zhì)量流量控制(mass flow control)一直是半導(dǎo)體芯片制造的關(guān)鍵技術(shù)之一。用于控制質(zhì)量流量的設(shè)備對于提供用于半導(dǎo)體制造和其他工業(yè)過程的工藝氣體的已知流速非常重要。此類設(shè)備用于測量和準(zhǔn)確控制各種應(yīng)用的流體流動。這種控制可以通過使用精確校準(zhǔn)的層流限制器來實現(xiàn)。

隨著芯片制造技術(shù)的進(jìn)步，對流量控制設(shè)備的需求也隨之提高。半導(dǎo)體制造工藝越來越需要提高性能，包括更準(zhǔn)確的測量、更低的設(shè)備成本、改進(jìn)的瞬態(tài)響應(yīng)時間以及氣體輸送時間的更好的一致性。為了提高氣體輸送的一致性，需要改進(jìn)流量限制器。

發(fā)明內(nèi)容

技術(shù)涉及用于質(zhì)量流量控制器或其他氣體輸送裝置的層流限制器。這些氣體輸送裝置中的一種或多種可用于廣泛的工藝，諸如半導(dǎo)體芯片制造、太陽能電池板制造等。

在一種實施方式中，本發(fā)明是一種用于限制氣體流量的流量限制器。流量限制器具有第一端、第二端和從第一端延伸到第二端的縱向軸線。多個第一層沿縱向軸線從第一端延伸到第二端。多個第二層沿縱向軸線從第一端延伸到第二端。第一端處的第一孔由多個第一層和多個第二層限定。第二端處的第二孔由多個第一層和多個第二層限定。流動通道由多個第一層和多個第二層限定，流動通道從第一孔延伸到第二孔。

在另一實施方式中，本發(fā)明是一種用于輸送流體的質(zhì)量流量控制裝置，該質(zhì)量流量控制裝置具有閥，該閥包括入口通道、出口通道、閥座和關(guān)閉構(gòu)件。質(zhì)量流量控制裝置還具有流量限制器，流量限制器位于入口通道或出口通道之一中。流量限制器具有第一端、第二端和從第一端延伸到第二端的縱向軸線。多個層基本上平行于縱向軸線延伸。第一孔位于第一端并且第二孔位于第二端。流動通道由多個層限定，流動通道流體地聯(lián)接到第一孔和第二孔。

在又一實施方式中，本發(fā)明是一種制造流量限制器的方法。首先，提供多個層坯(layer blanks)，層坯具有第一邊緣、與第一邊緣相對的第二邊緣、第三邊緣、與第三邊緣相對的第四邊緣、正面和與正面相對的背面。第一空腔形成在多個層坯中的第一個層坯的正面中。多個層坯被堆疊。隨后，將多個層坯結(jié)合以形成具有第一未修整端和相對的第二未修整端的阻抗疊層(resistor stack)。阻抗疊層的第一未修整端由多個層坯的第一邊緣形成，并且阻抗疊層的第二未修整端由多個層坯的第二邊緣形成。最后，從層坯的第一未修整端去除材料以暴露第一空腔并形成第一孔。

本技術(shù)的其他應(yīng)用領(lǐng)域?qū)南挛奶峁┑脑敿?xì)描述中變得顯而易見。應(yīng)當(dāng)理解，詳細(xì)描述和具體示例雖然指示了優(yōu)選實施方式，但僅旨在用于說明的目的，而不旨在限制本技術(shù)的范圍。

附圖說明

本公開的發(fā)明將通過詳細(xì)描述和附圖變得更加充分地理解，其中：

圖1是使用一個或多個層流限制器的過程的示意圖。

圖2是可以在圖1的過程中使用的質(zhì)量流量控制器的示意圖。

圖3是可用于圖2的質(zhì)量流量控制器的層流限制器的第一實施例的立體圖。

圖4是說明形成圖3的流量限制器的層的一部分的立體圖。

圖5A是圖4的流量限制器的一部分的端視圖。

圖5B是圖5A的區(qū)域VB的詳細(xì)視圖。

圖6是圖4的流量限制器的一部分的分解立體圖。

圖7是圖4的沿線VII-VII截取的流量限制器的一部分的剖視圖。

圖8是圖3的流量限制器的第一層的俯視圖。

圖9是圖3的流量限制器的第二層的俯視圖。

圖10是層流限制器的第二實施例的立體圖。