[發明專利]窄發射染料、包含其的組合物以及制備和使用其的方法在審
| 申請號： | 202080052180.1 | 申請日： | 2020-05-19 |
| 公開（公告）號： | CN114222802A | 公開（公告）日： | 2022-03-22 |
| 發明（設計）人： | C·J·麥克內文;C-Y·陳 | 申請（專利權）人： | 尼爾瓦納科學股份有限公司 |
| 主分類號： | C09K19/54 | 分類號： | C09K19/54;G02F1/1335;H05B33/14 |
| 代理公司： | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人： | 張曉威 |
| 地址： | 美國北*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 發射 染料 包含 組合 以及 制備 使用 方法 | ||
1.式(II)的化合物：
其中：
M是金屬或是-H、-H；
R5、R10和R15獨立地選自H、烷氧基和具有下式的連接基團：
-L1-(X1-L2)p-G；
其中p為0或1；L1是亞烴基；X1是-C(＝O)NH-或-NHC(＝O)-；L2是其中q為1至24的整數的-(CH2CH2O)q-亞烷基、亞烷基或取代的亞烷基，任選地，其中取代的亞烷基為被一個或多個包含聚氧乙烯鏈和/或酰胺基團的基團取代的亞烷基；并且G是可生物綴合基團；并且
R2、R3、R12和R13獨立地選自H、氰基、鹵素、全鹵代烷基、磺酸酯、磺酰胺、酯、羧酸、甲酰基、乙?；⒕哂惺?L1-(X1-L2)p-G的連接基團和增溶基團，其中所述增溶基團選自-芳基-(Rs)w和-炔基-芳基-（Rs)w，其中w為0至5的整數，包括端值，并且RS是具有下式的基團：
-X2-(L3)z-R17，
其中：z為0或1；X2是-CH2NHC(＝O)-、-C(＝O)NH-亞烷基-NH-或三唑基；L3是-C(＝O)-亞烷基-C(＝O)-NH-，并且R17選自-(C2H4O)m-R18、-C(＝O)C2H4-(OC2H4)mOR18和-(C2H4O)n-C2H4-C(＝O)NH-C(R19)3，其中m為12或更大的整數；n為1至5的整數；R18是低級烷基，任選地是甲基；并且R19是-CH2O-C2H4-C(＝O)NH-(C2H4O)mR18；
條件是：R2、R3、R12和R13中的至少一個是-芳基-(Rs)w或-炔基-芳基-(Rs)w。
2.權利要求1的化合物，其中M為Zn。
3.權利要求1或權利要求2的化合物，其中R5、R10和R15獨立地選自H、甲氧基和具有下式的連接基團：-L1-(X1-L2)p-G。
4.權利要求1-3中任一項的化合物，其中R3和R13各自為酯，任選地為-C(＝O)OCH3。
5.權利要求1-4中任一項的化合物，其中R2為
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