[發明專利]用于顯示模塊的模制對比度掩膜

在審

• 申請號: 202080043598.6
• 申請日: 2020-05-08
• 公開（公告）號: CN113950739A
• 公開（公告）日: 2022-01-18
• 發明（設計）人: 瑞安·約瑟夫·尼爾森;格雷戈里·林恩·勞恩;馬修·克雷格·布伊斯克
• 申請（專利權）人: 達科電子股份有限公司
• 主分類號: H01L25/16
• 分類號: H01L25/16;H01L33/54;H01L33/62
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 李德山;馬驍

1.一種顯示模塊，包括：

電路板；

多個發光元件，其連接至所述電路板的前表面，其中，所述多個發光元件被成陣列布置，所述陣列被配置成在所述電路板的所述前表面處產生顯示圖像的至少一部分；以及

對比度掩模，其直接連接至所述電路板的所述前表面，所述對比度掩模限定多個窗口，其中每個窗口圍繞包括所述多個發光元件中的一個或更多個發光元件的組。

2.根據權利要求1所述的顯示模塊，其中，所述對比度掩模被模制到所述電路板的所述前表面上。

3.根據權利要求1或2中任一項所述的顯示模塊，其中，包括所述多個發光元件中的一個或更多個發光元件的每個組包括所述發光元件中的兩個或更多個發光元件的像素，其中，所述多個像素被布置成提供所述陣列。

4.根據權利要求3所述的顯示模塊，其中，所述對比度掩模減少所述像素中的一個或更多個像素周圍的光暈效應的發生。

5.根據權利要求3或4中任一項所述的顯示模塊，其中，所述多個像素中的鄰近像素以指定的像素間距間隔開。

6.根據權利要求5所述的顯示模塊，其中，所述指定像素間距不大于4毫米。

7.根據權利要求5所述的顯示模塊，其中，所述指定像素間距不大于2.5毫米。

8.根據權利要求1至7中任一項所述的顯示模塊，其中，所述對比度掩膜增強由所述發光元件發射的光與所述顯示圖像中的暗色或黑色的外觀之間的對比度。

9.根據權利要求1至8中任一項所述的顯示模塊，其中，所述對比度掩膜由可模制材料形成。

10.根據權利要求1至9中任一項所述的顯示模塊，其中，所述對比度掩膜由以下中的至少一個形成：環氧基材料、硅基化合物或黑碳化合物。

11.一種方法，包括：

提供或接收電路板；

將可模制材料模制到所述電路板的前表面的至少一部分上以形成對比度掩膜；以及

將多個發光元件成陣列地安裝至所述電路板的所述前表面上，所述陣列被配置成在所述電路板的所述前表面處產生顯示圖像的至少一部分；

其中，所述可模制材料的模制包括在所述對比度掩膜中或通過所述對比度掩膜形成多個窗口，以允許光從所述發光元件發射，從而在所述電路板的所述前表面處產生顯示圖像，其中，每個窗口圍繞包括所述多個發光元件中的一個或更多個發光元件的組。

12.根據權利要求11所述的方法，其中，包括所述多個發光元件中的一個或更多個發光元件的每個組包括所述發光元件中的兩個或更多個發光元件的像素，其中，多個所述像素被布置成提供所述陣列。

13.根據權利要求12所述的方法，其中，所述多個發光元件的安裝包括安裝所述多個像素中的鄰近像素，使得所述鄰近像素以指定的像素間距間隔開。

14.根據權利要求13所述的方法，其中，所述指定像素間距不大于4毫米。

15.根據權利要求13所述的方法，其中，所述指定像素間距不大于2.5毫米。

16.根據權利要求12至15中任一權利要求所述的方法，其中，所述對比度掩模減少所述像素中的一或更多個像素周圍的光暈效應的發生。

17.根據權利要求11至16中任一項所述的方法，其中，所述對比度掩膜增強由所述發光元件發射的光與所述顯示圖像中的暗色或黑色的外觀之間的對比度。