[發明專利]用于校正顯微鏡物鏡視場中對焦平面變化的系統和方法

在審

• 申請號: 202080041304.6
• 申請日: 2020-05-28
• 公開（公告）號: CN113939759A
• 公開（公告）日: 2022-01-14
• 發明（設計）人: 阿夫魯·科恩;洪迪慧;史蒂夫·盧克;斯蒂芬·萊茵
• 申請（專利權）人: 分子裝置有限公司
• 主分類號: G02B21/36
• 分類號: G02B21/36;G02B21/24;G02B7/38;H04N5/232;H04N5/225
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 張娜;林文

1.一種用于使用成像系統生成在樣本保持器上的樣本的圖像的計算機實現系統，所述成像系統包括圖像傳感器和相對于所述樣本保持器在第一位置和第二位置之間可移動的透鏡，其中，所述圖像傳感器生成二維像素陣列，所述計算機實現系統包括：

在處理器上操作的圖像采集器，所述圖像采集器從所述圖像傳感器接收所述樣本的多個圖像，在所述透鏡位于所述第一位置和所述第二位置之間的所述透鏡的第一多個定位中的相應一個定位時，所述樣本的所述多個圖像中的每一個均被捕獲；和

圖像生成器，所述圖像生成器：

選擇與所述透鏡相關聯的特征映射，所述特征映射將由所述圖像傳感器生成的圖像的每個像素的坐標與所述透鏡的在所述第一位置和所述第二位置之間的第二多個定位中的一個定位相關聯；

根據所述特征映射，從與輸出圖像像素的坐標相關聯的所述第二多個定位中選擇第一定位；

根據所述第一定位，從所述第一多個定位中選擇第二定位；

從與所述第二定位相關聯的所述樣本的所述多個圖像中選擇圖像；以及

根據所述多個圖像中與所述輸出像素相對應的所選擇圖像的像素值，來確定所述輸出像素的值。

2.根據權利要求1所述的計算機實現系統，還包括特征映射生成器，其中，所述特征映射生成器分析多個聚焦目標圖像，每個聚焦目標圖像在所述透鏡位于所述第一多個定位中的相應一個定位時均已被捕獲。

3.根據權利要求2所述的計算機實現系統，還包括聚焦分析器，所述聚焦分析器分析每個聚焦目標圖像的聚焦，以關聯表示圍繞所述聚焦目標圖像的每個像素的區域的聚焦的值。

4.根據權利要求3所述的計算機實現系統，其中，所述特征映射生成器生成特征映射陣列，其中，針對所述特征映射陣列的每個元素，所述特征映射生成器選擇具有與該元素的該坐標相關聯的最大聚焦分數的聚焦目標圖像。

5.根據權利要求4所述的計算機實現系統，其中，所述特征映射生成器將表面方程與所述特征映射陣列進行擬合，以生成所述特征映射。

6.根據權利要求4所述的計算機實現系統，其中，所述特征映射生成器將平滑濾波器應用于所述特征映射陣列，以生成所述特征映射。

7.根據權利要求2所述的計算機實現系統，其中，所述特征映射生成器在第一計算機上操作，并且所述圖像生成器在第二計算機上操作，其中，所述第一計算機和所述第二計算機位于彼此遠離的位置。

8.根據權利要求1所述的計算機實現系統，其中，所述第一多個定位不同于所述第二多個定位。

9.根據權利要求1所述的計算機實現系統，其中，所述圖像生成器根據所述特征映射生成包括輸出圖像的多個像素，并且所述圖像生成器生成多個該輸出圖像以產生表示所述樣本的三維呈現的圖像的Z-堆疊。

10.根據權利要求1所述的計算機實現系統，其中，所述成像系統位于遠離所述計算機實現系統的位置。