[發(fā)明專利]離型膜有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202080039903.4 | 申請日: | 2020-06-01 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113924343B | 公開(公告)日: | 2023-06-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 申俊鎬;張民慪 | 申請(專利權(quán))人: | 東麗先端素材株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | C08L67/02 | 分類號(hào): | C08L67/02;C09D161/32;C09D183/12;C09D171/02;C08J7/04;C09J7/20 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 梁笑;孫雅雯 |
| 地址: | 韓國慶尚*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 離型膜 | ||
本發(fā)明涉及離型膜,其不粘連和卷曲,具有低表面粗糙度以適用于MLCC制造過程,并且即使在高涂覆厚度下也不卷曲以防止在應(yīng)用于MLCC制造過程時(shí)陶瓷片的活動(dòng)和有缺陷的堆疊,因此可以有助于降低生產(chǎn)成本和缺陷率。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及離型膜,并且更特別地涉及這樣的離型膜:其不粘連和卷曲,具有低表面粗糙度以適用于多層陶瓷電容器(MLCC)制造過程,并且即使在高涂覆厚度下也不卷曲以防止在應(yīng)用于MLCC制造過程時(shí)陶瓷片的活動(dòng)和有缺陷的堆疊,因此可以有助于降低生產(chǎn)成本和缺陷率。
背景技術(shù)
通常,離型膜是具有附接至其的粘合劑膜并用于保護(hù)粘合劑組分免受大氣中的異物或不期望的被粘物的保護(hù)膜,并且在基礎(chǔ)膜的一側(cè)上設(shè)置有包含高分子有機(jī)硅作為主要組分的離型層。
離型膜的另一個(gè)特殊用途是在多層陶瓷電容器(以下簡稱MLCC)制造過程中。MLCC通過層合數(shù)百層薄陶瓷片和金屬電極制造,并且使用離型膜作為用于制造薄膜陶瓷片的載體膜。即,將涂覆在離型膜上之后干燥的陶瓷漿料從離型膜剝離以獲得薄陶瓷片。在將離型膜應(yīng)用于MLCC過程時(shí),離型膜的表面粗糙度是最重要的因素,因?yàn)殡x型膜上的突起或不規(guī)則性導(dǎo)致陶瓷片中的針孔缺陷。為此,在本領(lǐng)域中已經(jīng)做出持續(xù)努力來降低表面粗糙度。
用作本領(lǐng)域中一般離型膜中的基材的聚酯膜的表面粗糙度為20nm至50nm,同時(shí)離型層的涂覆厚度薄至100nm,因此離型膜的表面粗糙度通常由基材的表面粗糙度確定。因此,為了降低離型膜的表面粗糙度,通常制備表面粗糙度較低的聚酯膜以用作基材。然而,在聚酯膜制造過程中,需要特定顆粒來降低表面粗糙度,并且也降低了膜的產(chǎn)率和生產(chǎn)力。因此,使用這樣的膜作為基材不可避免地導(dǎo)致離型膜制造成本的增加。
因此,為了降低離型膜的表面粗糙度,本領(lǐng)域技術(shù)人員可以容易地想到將離型層涂覆至與基材的表面粗糙度相比足夠的厚度的方法。然而,由于典型的離型層包含高分子有機(jī)硅作為其主要組分,因此當(dāng)涂覆厚度超過一定水平(約200nm)時(shí),發(fā)生所謂的粘連,其中離型層由于聚合物有機(jī)硅的低粘彈性而變得有粘性,使卷繞過程(將膜卷繞成卷的過程)成為不可能。
作為用于獲得具有較低表面粗糙度而不引起這樣的粘連的離型膜的方法,已經(jīng)提出了在基材上涂覆單獨(dú)的平滑層并進(jìn)一步在平滑層上涂覆離型層的方法(韓國特許專利公開第10-2016-0127036號(hào))。在這樣的多層涂覆中,當(dāng)平滑層具有足夠致密的結(jié)構(gòu)時(shí),涂層的粘度低,因此可以有利地降低表面粗糙度而不引起粘連。然而,由于該方法需要單獨(dú)的涂覆過程,因此存在工藝成本增加和產(chǎn)率降低的缺點(diǎn)。
此外,作為用于使用單層涂覆過程實(shí)現(xiàn)上述目的的方法,已經(jīng)提出了通過將不會(huì)引起粘連的具有致密結(jié)構(gòu)的蜜胺樹脂與易于控制離型特性的聚有機(jī)硅氧烷樹脂混合來形成離型層的方法(韓國特許專利公開第10-2018-0020945號(hào))。然而,這樣的離型膜經(jīng)歷所謂的卷曲,其中離型膜由于蜜胺樹脂的熱收縮而朝向涂層彎曲,并且當(dāng)在高溫下加熱并持續(xù)長時(shí)間時(shí),卷曲特別顯著。此外,當(dāng)發(fā)生離型膜的卷曲時(shí),出現(xiàn)的問題在于,在離型膜上形成和層合陶瓷片的過程中陶瓷片被不良地層合或抬起。
發(fā)明內(nèi)容
技術(shù)問題
構(gòu)思本發(fā)明以解決前述問題并滿足現(xiàn)有技術(shù)的要求,并且本發(fā)明的一個(gè)目的是通過提供具有離型特性和降低基底的表面粗糙度的效果兩者的離型層來提供具有與常規(guī)離型膜相比更低的表面粗糙度的離型膜。
本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供在室溫和高溫下不卷曲并因此可以防止在應(yīng)用于MLCC時(shí)陶瓷片的活動(dòng)和有缺陷的堆疊的離型膜。
通過閱讀以下舉例說明本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方案的描述,本發(fā)明的前述和其他目的與優(yōu)點(diǎn)對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員將變得明顯。
技術(shù)方案
以上目的通過一種離型膜實(shí)現(xiàn),所述離型膜包括基材、形成在基材的一側(cè)上的離型層,其中離型層由離型涂覆組合物形成,所述離型涂覆組合物包含蜜胺樹脂、聚二甲基硅氧烷和聚醚的共聚物樹脂、和聚乙二醇。
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