[發(fā)明專利]磁化測定裝置及磁化測定方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202080037758.6 | 申請日： | 2020-06-29 |
| 公開（公告）號： | CN113874744A | 公開（公告）日： | 2021-12-31 |
| 發(fā)明（設計）人： | 筱龍德 | 申請（專利權）人： | 昭和電工株式會社 |
| 主分類號： | G01R33/12 | 分類號： | G01R33/12;G01R33/032 |
| 代理公司： | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人： | 李國卿 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 磁化 測定 裝置 方法 | ||
1.磁化測定裝置，其具備：
電流供給部，所述電流供給部針對在第1方向上具有單軸磁各向異性、并且在與所述第1方向交叉的第2方向上施加有偏置磁場的由軟磁體形成的試樣，供給周期性變化的電流；
光照射部，所述光照射部向所述試樣的表面照射相對于所述電流具有預先規(guī)定的延遲時間、并且具有預先規(guī)定的偏振面的直線偏振光的脈沖光；和
測定部，所述測定部基于在所述試樣的表面進行了反射的所述脈沖光的反射光，對所述延遲時間內(nèi)的所述試樣的磁化進行測定。
2.如權利要求1所述的磁化測定裝置，其特征在于，所述電流供給部針對所述試樣供給具有預先規(guī)定的重復周期的脈沖電流。
3.如權利要求1或2所述的磁化測定裝置，其特征在于，所述光照射部以入射至所述試樣的所述脈沖光的行進方向及在所述試樣的表面被反射的所述反射光的行進方向與所述第1方向或所述第2方向平行的方式照射所述脈沖光。
4.磁化測定方法，其中，
針對在第1方向上具有單軸磁各向異性、并且在與所述第1方向交叉的第2方向上施加有偏置磁場的由軟磁體形成的試樣，供給周期性變化的電流，
向所述試樣的表面照射相對于所述電流具有預先規(guī)定的延遲時間、并且具有預先規(guī)定的偏振面的直線偏振光的脈沖光，
基于在所述試樣的表面進行了反射的所述脈沖光的反射光，對所述延遲時間內(nèi)的所述試樣的磁化進行測定。
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