[發明專利]用于制造電子電力模塊的方法在審
| 申請號: | 202080032723.3 | 申請日: | 2020-04-24 |
| 公開(公告)號: | CN113767456A | 公開(公告)日: | 2021-12-07 |
| 發明(設計)人: | 巴普蒂斯泰·喬艾爾·克里斯汀·費迪;拉比赫·克哈扎卡;托尼·姚瑟夫;皮埃爾·金·薩洛特 | 申請(專利權)人: | 賽峰公司 |
| 主分類號: | H01L21/48 | 分類號: | H01L21/48;H01L23/367;H01L23/495;H01L25/16 |
| 代理公司: | 北京國昊天誠知識產權代理有限公司 11315 | 代理人: | 南霆;李有財 |
| 地址: | 法國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 制造 電子 電力 模塊 方法 | ||
1.用于通過增材制造來制造電力電子模塊(1)的方法,其特征在于,所述方法包括以下步驟:
-在絕緣襯底(2a)的至少一個面上制作或固定聚合物材料的預成型體(15),所述絕緣襯底被覆蓋有至少一個金屬層(2b、2c),被稱為金屬化襯底(2),
-在所述預成型體(15)上沉積第一金屬層(17),
-通過電成型而在所述第一金屬層(17)上沉積第二金屬層(18)。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法包括通過化學或熱學手段溶解聚合物材料的預成型體(15)的步驟。
3.根據權利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述方法包括在所述金屬化襯底(2a)上組裝例如半導體電力組件(3)的有源組件的步驟。
4.根據權利要求1到3中任一項所述的方法,其特征在于,所述方法包括在沉積所述第一金屬層(17)之前保護所述金屬化襯底(2a)的至少一個區域的步驟。
5.根據權利要求1到4中任一項所述的方法,其特征在于,所述金屬化襯底(2)包括至少一個陶瓷的絕緣層(2a)。
6.根據權利要求1到5中任一項所述的方法,其特征在于,所述第一金屬層(17)的厚度小于5微米,優選地小于1微米。
7.根據權利要求1和3所述的方法,其特征在于,所述電力電子模塊(1)包括外殼(7),所述金屬化襯底(2)和所述有源組件(3)容納在所述外殼中,所述方法包括至少部分地用電絕緣材料(10)填充所述外殼的步驟。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





