[發明專利]包含含釕導電柵極的組合件在審
| 申請號: | 202080032717.8 | 申請日: | 2020-02-26 |
| 公開(公告)號: | CN113767473A | 公開(公告)日: | 2021-12-07 |
| 發明(設計)人: | R·甘地 | 申請(專利權)人: | 美光科技公司 |
| 主分類號: | H01L27/1157 | 分類號: | H01L27/1157;H01L27/11582;H01L27/11573;H01L29/792;H01L29/66 |
| 代理公司: | 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287 | 代理人: | 彭曉文 |
| 地址: | 美國愛*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 包含 導電 柵極 組合 | ||
1.一種存儲器單元,其包括:
導電柵極,其包括釕;
電荷阻擋區,其鄰近于所述導電柵極;
電荷存儲區,其鄰近于所述電荷阻擋區;
隧穿材料,其鄰近于所述電荷存儲區;以及
溝道材料,其鄰近于所述隧穿材料。
2.根據權利要求1所述的存儲器單元,其包括電介質阻擋層材料,所述電介質阻擋層材料直接抵靠所述導電柵極的所述釕且在所述電荷阻擋區與所述導電柵極之間。
3.根據權利要求1所述的存儲器單元,其中所述溝道材料包括硅、鍺、III/V半導體材料和半導體氧化物中的一或多種。
4.根據權利要求1所述的存儲器單元,其中所述溝道材料包括硅。
5.根據權利要求1所述的存儲器單元,其中所述導電柵極由所述釕組成。
6.根據權利要求1所述的存儲器單元,其中所述導電柵極包括:
導電芯材料,其包括除所述釕外的一或多種金屬;以及
第二導電材料,其鄰近于所述導電芯材料的周邊且包括所述釕。
7.根據權利要求6所述的存儲器單元,其中所述導電芯材料由除所述釕外的所述一或多種金屬組成。
8.根據權利要求6所述的存儲器單元,其中所述導電芯材料包含鎢和鉬中的一種或兩種。
9.根據權利要求1所述的存儲器單元,其中所述導電柵極包括:
導電芯材料,其包括除所述釕外的一或多種金屬;
第二導電材料,其鄰近于所述導電芯材料且包括至少一種金屬氮化物;以及
第三導電材料,其鄰近于所述第二導電材料且包括所述釕。
10.根據權利要求1所述的存儲器單元,其中所述導電柵極包括:
導電芯材料,其包括除所述釕外的一或多種金屬;
第二導電材料,其鄰近于所述導電芯材料且包括鈦和鎢中的一種兩種;以及
第三導電材料,其鄰近于所述第二導電材料且包括所述釕。
11.根據權利要求10所述的存儲器單元,其中:
所述導電芯材料由鎢組成;
所述第二導電材料包括氮化鈦和氮化鎢中的一種或兩種;且
所述第三導電材料由所述釕組成。
12.一種組合件,其包括:
交替的絕緣層級和字線層級的豎直堆疊,所述字線層級包括導電字線材料,所述導電字線材料包含釕;
半導體材料,其作為溝道結構延伸穿過所述堆疊;
電荷存儲區,其在所述導電字線材料與所述溝道結構之間;以及
電荷阻擋區,其在所述電荷存儲區與所述導電字線材料之間。
13.根據權利要求12所述的組合件,其中所述導電字線材料由所述釕組成。
14.根據權利要求12所述的組合件,其中所述半導體材料包括硅。
15.根據權利要求12所述的組合件,其中所述導電字線材料包括:
導電芯材料,其不包含所述釕;以及
第二導電材料,其鄰近于所述導電芯材料的周邊且包括所述釕。
16.根據權利要求15所述的組合件,其中所述導電芯材料包含一或多種金屬。
17.根據權利要求15所述的組合件,其中所述導電芯材料由鎢組成。
18.根據權利要求15所述的組合件,其中所述導電芯材料由鉬組成。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





