[發明專利]衍射背光的制造方法

在審

• 申請號: 202080032100.6
• 申請日: 2020-04-25
• 公開（公告）號: CN113748373A
• 公開（公告）日: 2021-12-03
• 發明（設計）人: T.霍克曼;D.A.法塔爾;馬明;彭臻
• 申請（專利權）人: 鐳亞股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 張曉明

1.一種制造衍射背光的方法，所述方法包括：

提供具有衍射光柵的光導；

使用所述衍射光柵將被引導光衍射地散射到所述光導之外，以選擇性地曝光鄰近所述光導的表面的光致抗蝕劑，選擇性曝光在所述光致抗蝕劑中提供與所述衍射光柵對準的開口；以及

沉積反射材料在所述開口中，以形成與所述衍射光柵對準的反射島，

其中，所述衍射背光的反射衍射光柵元件包括所述衍射光柵和所述反射島的組合。

2.根據權利要求1所述的制造衍射背光的方法，其中，提供具有衍射光柵的光導包括使用納米壓印模具納米壓印所述光導的表面，以在所述光導表面中形成所述衍射光柵。

3.根據權利要求2所述的制造衍射背光的方法，其中，使用納米壓印模具納米壓印所述光導的表面包括：

將納米壓印接收層施加到所述光導的表面；以及

將所述納米壓印模具壓入所述納米壓印接收層中以形成所述衍射光柵。

4.根據權利要求1所述的制造衍射背光的方法，其中，使用所述衍射光柵將被引導光衍射地散射出所述光導包括：

根據全內反射沿著所述光導的長度引導光作為被引導光；以及

使用所述衍射光柵將所述引導光的一部分衍射地散射出所述光導。

5.根據權利要求4所述的制造衍射背光的方法，其中，所述被引導光包括由光學地連接到所述光導的邊緣的光源提供的藍光和紫外光中的一者或兩者。

6.根據權利要求1所述的制造衍射背光的方法，還包括將所述光致抗蝕劑施加到所述光導表面，并且在通過所述被引導光的所述衍射散射部分選擇性曝光之后顯影所述光致抗蝕劑以提供所述開口。

7.根據權利要求1所述的制造衍射背光的方法，其中，將反射材料沉積到所述開口中以形成反射島包括：

在所述光致抗蝕劑的表面上，包括在所述光致抗蝕劑中的所述開口中沉積所述反射材料層；以及

剝離所述光致抗蝕劑以僅留下在所述開口內的所述反射材料。

8.根據權利要求1所述的制造衍射背光的方法，其中，所述光導包括：

導光基板；

在所述光導基板的表面上的高折射率材料層，所述高折射率材料具有比所述光導基板的折射率大的折射率；以及

低折射率材料層，其具有比所述高折射率材料的折射率小的折射率，高折射率材料夾在所述低折射率材料層與所述光導基板之間，

其中，通過在所述高折射率材料層與所述低折射率材料層之間的界面處的全內反射在所述光導內引導光。

9.根據權利要求8所述的制造衍射背光的方法，其中，所述高折射率材料延伸到所述光導基板的所述表面中的所述衍射光柵的衍射特征中。

10.根據權利要求8所述的制造衍射背光的方法，還包括通過所述光致抗蝕劑中的所述開口在所述低折射率材料層中蝕刻開口，以暴露所述高折射率材料層。

11.根據權利要求10所述的制造衍射背光的方法，其中，將反射材料沉積到所述開口中以形成反射島包括：

在所述光致抗蝕劑的表面上，包括在所述光致抗蝕劑中的所述開口和所述低折射率材料層中的所述開口中沉積所述反射材料層；以及

剝離光致抗蝕劑以僅留下在開口內和高折射率材料層的表面上的反射材料。

12.根據權利要求11所述的制造衍射背光的方法，還包括從所述光導移除所述低折射率材料層。

13.根據權利要求1所述的制造衍射背光的方法，其中，所述反射材料包括金屬、金屬聚合物和高折射率電介質中的一種或多種。