[發明專利]玻璃用蝕刻液及玻璃基板制造方法在審
| 申請號： | 202080032093.X | 申請日： | 2020-02-03 |
| 公開（公告）號： | CN113767075A | 公開（公告）日： | 2021-12-07 |
| 發明（設計）人： | 西川晴香;島田和哉;永井忠;三好雄三;富家夏樹;大小田健太;柏原康宏;齊藤俊介;大山陽照;林篤嗣;福成良介;石垣暢規;元持健;久米貴大 | 申請（專利權）人： | 株式會社NSC;松下電器產業株式會社 |
| 主分類號： | C03B33/02 | 分類號： | C03B33/02;C03C15/00;C03C23/00;B23K26/382 |
| 代理公司： | 北京匯思誠業知識產權代理有限公司 11444 | 代理人： | 王強;龔敏 |
| 地址： | 日本國大阪府*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 玻璃 蝕刻 制造 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種玻璃用蝕刻液，用于對玻璃進行蝕刻，其中，
所述玻璃用蝕刻液至少含有蝕刻阻礙物質，該蝕刻阻礙物質使對玻璃的蝕刻速度降低，且至少含有堿或氟絡合劑中的任一種。
2.根據權利要求1所述的玻璃用蝕刻液，其中，
所述蝕刻阻礙物質通過附著于玻璃中的改性成容易被蝕刻的改性部來產生阻礙蝕刻反應的反應生成物。
3.一種玻璃基板制造方法，是使用權利要求1或2所述的玻璃用蝕刻液的玻璃基板制造方法，其中，
所述玻璃基板制造方法包括：
改性步驟，通過以遍及玻璃基板的蝕刻預定位置的厚度方向形成能量密度相對高的焦線的方式向所述玻璃基板照射激光來對所述蝕刻預定位置進行改性；及
第一蝕刻步驟，在所述改性步驟后，使用所述玻璃用蝕刻液對所述蝕刻預定位置進行蝕刻。
4.根據權利要求3所述的玻璃基板制造方法，其中，
所述玻璃基板制造方法在所述第一蝕刻步驟之后還包括第二蝕刻步驟，在該第二蝕刻步驟中，利用至少含有氫氟酸的蝕刻液對所述蝕刻預定位置進行蝕刻。
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