[發明專利]用于對準光學元件的致動器裝置和方法、光學組裝件和投射曝光設備

在審

• 申請號: 202080030374.1
• 申請日: 2020-01-24
• 公開（公告）號: CN113711099A
• 公開（公告）日: 2021-11-26
• 發明（設計）人: B.普尼尼
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司SMT有限責任公司
• 主分類號: G02B7/182
• 分類號: G02B7/182;G03F7/20;H02K41/035;H02K7/14
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 王蕊瑞

1.一種用于對準投射曝光設備(100、200、400)的光學元件(2)的致動器裝置(3)，所述致動器裝置(3)具有軸(9)和至少一個致動器單元(7)，所述軸(9)的第一端部分(9.1)(11)通過接合件(10)從支撐結構(5)的基點可偏轉地懸置且其第二端部分(9.2)固定在所述光學元件(2)上，并且所述至少一個致動器單元(7)具有固定在所述軸(9)上的平移器(12)和機械連接到所述支撐結構(5)的定子(13)以便向所述軸(9)施加偏轉力(F_A)，以便使所述軸(9)從中間位置(M)徑向偏轉，其特征在于，提供補償裝置(16)，其設置成獨立于所述偏轉力(F_A)向所述軸(9)施加補償力(F_K)，所述補償力(F_k)根據所述軸(9)從所述中間位置(M)的偏轉而增加并且抵消由所述光學元件(2)的重量(F_G)引起的、在所述中間位置(M)的方向上作用在所述軸(9)上的恢復力(F_R)。

2.根據權利要求1所述的致動器裝置(3)，其特征在于，提供重量補償裝置(8)，所述軸(9)被設計為所述重量補償裝置(8)的平移器或者連接到所述重量補償裝置(8)的平移器，并且所述重量補償裝置(8)被設置成至少部分地補償所述光學元件(2)的重量(F_G)。

3.根據權利要求1或2所述的致動器裝置(3)，其特征在于，所述接合件被設計為撓曲件，通過所述接合件，所述第一端部分(9.1)從所述支撐結構(5)的基點(11)可偏轉地懸置。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的致動器裝置(3)，其特征在于，所述至少一個致動器單元(7)通過其平移器(12)固定在所述軸的第二端部分(9.2)的區域(9)中。

5.根據權利要求1至4中任一項所述的致動器裝置(3)，其特征在于，提供兩個致動器單元(7)，它們相應的平移器(12)固定在所述軸(9)的相對側上。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的致動器裝置(3)，其特征在于，所述補償裝置(16)具有磁體布置以便生成補償力(F_K)。

7.根據權利要求6所述的致動器裝置(3)，其特征在于，所述磁體布置具有至少一個圍繞所述軸(9)延伸的環形磁體(17)，特別地至少一個徑向磁化的環形磁體(17)。

8.根據權利要求6或7所述的致動器裝置(3)，其特征在于，所述磁體布置被設計和/或定位為使得所述軸(9)在其從所述中間位置偏轉至最大值的位置不接觸所述磁體布置。

9.根據權利要求1至8中任一項所述的致動器裝置(3)，其特征在于，所述補償裝置(16)具有彈簧布置以生成所述補償力(F_K)。

10.根據權利要求9所述的致動器裝置(3)，其特征在于，所述彈簧布置具有至少一個拉伸彈簧(18)，所述拉伸彈簧(18)用第一端固定在所述支撐結構(5)上并且用第二端固定在所述軸(9)上，并且當所述軸(9)位于所述中間位置(M)時，所述拉伸彈簧(18)被拉伸超過其松弛長度。

11.根據權利要求9或10所述的致動器裝置(3)，其特征在于，所述彈簧布置具有至少一個壓縮彈簧(19)，優選地兩個壓縮彈簧(19)，所述至少一個壓縮彈簧(19)以第一端固定在所述支撐結構(5)上并且以第二端固定在所述軸(9)上，當所述軸(9)位于所述中間位置(M)時，所述壓縮彈簧(19)相對于其松弛長度被壓縮。

12.根據權利要求1至11中任一項所述的致動器裝置(3)，其特征在于，所述補償裝置(16)被設置為通過所述補償力(F_K)部分或完全地補償或過度補償作用在所述軸(9)上的所述恢復力(F_R)。