[發(fā)明專利]粘合片、粘合片的制造方法、中間層疊體的制造方法以及中間層疊體

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202080021380.0
• 申請日: 2020-01-17
• 公開（公告）號: CN113646167A
• 公開（公告）日: 2021-11-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 仲野武史;本田哲士;尾崎真由;舟木千尋
• 申請（專利權(quán)）人: 日東電工株式會社
• 主分類號: B32B27/00
• 分類號: B32B27/00;B32B27/18;C09J11/04;C09J11/06;C09J133/00;C09J201/00;C09J201/02;G02B5/22;C09J7/10;C09J7/22;C09J7/38;B32B7/023
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;李茂家

1.一種粘合片，其特征在于，具備粘合層、以及配置在所述粘合層的一個(gè)面的活性光線吸收層，

所述粘合層由能通過活性光線的照射使波長550nm下的可見光透射率降低的粘合性組合物形成，

所述活性光線吸收層的、活性光線的平均透射率為15％以下。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的粘合片，其特征在于，所述粘合層由能通過紫外線的照射使波長550nm下的可見光透射率降低的粘合性組合物形成，

所述活性光線吸收層為紫外線吸收層，

所述紫外線吸收層的、波長300nm以上且400nm以下的平均透射率為15％以下。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的粘合片，其特征在于，所述紫外線吸收層的、波長400nm以上且700nm以下的平均透射率為50％以上。

4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的粘合片，其特征在于，所述紫外線吸收層包含紫外線吸收劑。

5.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的粘合片，其特征在于，所述粘合性組合物包含：粘合性聚合物，其為單體成分的聚合物；因酸而發(fā)生著色的化合物；以及，光產(chǎn)酸劑。

6.一種粘合片的制造方法，其特征在于，具備如下工序：

粘合層準(zhǔn)備工序，準(zhǔn)備由能通過活性光線的照射使波長550nm下的可見光透射率降低的粘合性組合物形成的粘合層；以及，

配置工序，在所述粘合層的一個(gè)面配置活性光線的平均透射率為15％以下的活性光線吸收層。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的粘合片的制造方法，其特征在于，在所述粘合層準(zhǔn)備工序后、且在所述配置工序前，對所述粘合層照射活性光線。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的粘合片的制造方法，其特征在于，在所述配置工序后照射活性光線。

9.一種中間層疊體的制造方法，其特征在于，具備如下工序：

準(zhǔn)備工序，準(zhǔn)備通過權(quán)利要求8所述的粘合片的制造方法而制造的粘合片；

照射工序，對所述粘合層照射活性光線，在所述粘合層中形成活性光線的照射量相對高的高照射部分、以及活性光線的照射量相對低或未照射活性光線的未照射/低照射部分，從而使所述高照射部分的波長550nm下的可見光透射率小于所述未照射/低照射部分的波長550nm下的可見光透射率；以及，

貼附工序，將所述粘合片的另一個(gè)面貼附于被粘物。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的中間層疊體的制造方法，其特征在于，在所述準(zhǔn)備工序后實(shí)施所述照射工序，

在所述照射工序后實(shí)施所述貼附工序。

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的中間層疊體的制造方法，其特征在于，在所述準(zhǔn)備工序后實(shí)施所述貼附工序，

在所述貼附工序后實(shí)施所述照射工序。

12.根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的中間層疊體的制造方法，其特征在于，在所述照射工序中，從所述活性光線吸收層的表面?zhèn)葘λ稣澈蠈诱丈浠钚怨饩€。

13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的中間層疊體的制造方法，其特征在于，在所述照射工序中，從所述粘合層的表面?zhèn)葘λ稣澈蠈诱丈浠钚怨饩€。

14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的中間層疊體的制造方法，其特征在于，在所述照射工序中，從所述被粘物的表面?zhèn)葘λ稣澈蠈诱丈浠钚怨饩€。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的中間層疊體的制造方法，其特征在于，所述被粘物的、活性光線的平均透射率為60％以上，

在所述照射工序中，在所述被粘物側(cè)的另一個(gè)面的一部分配置阻斷活性光線的掩模后，對所述粘合層照射活性光線。