[發(fā)明專利]等離子推進(jìn)器的腔室底部

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202080021269.1
• 申請(qǐng)日: 2020-03-11
• 公開（公告）號(hào): CN113597510A
• 公開（公告）日: 2021-11-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 朱利安·皮埃爾·阿蘭·沃多隆;多米尼克·讓·艾蒂安·因德西;勞倫特·亞歷山大·雷內(nèi)·戈達(dá)爾;蒂費(fèi)納·德·廷吉;法布里斯·弗朗索瓦·朱利安·馬約爾;羅曼·瓦拉特
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 賽峰航空器發(fā)動(dòng)機(jī)
• 主分類號(hào): F03H1/00
• 分類號(hào): F03H1/00
• 代理公司: 中國(guó)商標(biāo)專利事務(wù)所有限公司 11234
• 代理人: 桑麗茹

等離子推進(jìn)器的腔室底部，可以在單件中組合幾種功能，特別是可以緊固等離子推進(jìn)器的某些絕緣部件，所述腔室底部以單件形式包括用于封閉環(huán)形腔室的底部表面(10)，所述環(huán)形腔室由腔室底部(1)以及附接到腔室底部(1)的至少一個(gè)絕緣部件形成，以及至少一個(gè)接片組(30)，其包括用于將所述至少一個(gè)絕緣部件緊固到腔室底部(1)的緊固接片(31)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種等離子推進(jìn)器的腔室底部，所述腔室底部可以在單件中組合幾種功能，特別是可以緊固等離子推進(jìn)器的某些絕緣部件。

這種腔室底部可用于不同類型的等離子推進(jìn)器，特別是霍爾效應(yīng)推進(jìn)器。這種推進(jìn)器特別地可用于空間領(lǐng)域，以推進(jìn)或控制衛(wèi)星等航天器的姿態(tài)。

背景技術(shù)

霍爾效應(yīng)推進(jìn)器常規(guī)地包括具有陶瓷絕緣壁的放電室以及布置在腔室底部的陽(yáng)極噴射器組件；形成陰極的電子槍進(jìn)而安裝在放電室的側(cè)面上，并將電子發(fā)射到位于所述腔室前方的空間中，以便啟動(dòng)與陽(yáng)極的放電，從而在放電室中形成等離子體。

常規(guī)地，使用具有U形截面輪廓的環(huán)形陶瓷部件形成放電室；然后將機(jī)械焊接的陽(yáng)極噴射器組件附接到放電室的底部，最通常地通過(guò)膠粘或夾緊。

因此，了解了現(xiàn)有技術(shù)的這些構(gòu)造具有的許多困難。主要地，這些放電室需要幾個(gè)單獨(dú)部件，包括陶瓷部件、陽(yáng)極和噴射器的制造、加工和組裝。因此，這些操作證明特別地昂貴，特別是在考慮到空間領(lǐng)域的速率時(shí)。

因此，確實(shí)需要一種腔室底部以及一種等離子推進(jìn)器，他們至少部分地沒有上述已知構(gòu)造中固有的缺點(diǎn)。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明涉及一種等離子推進(jìn)器的腔室底部，其包括單件的：

用于封閉環(huán)形腔室的腔室底部表面，所述環(huán)形腔室由腔室底部以及附接到腔室底部的至少一個(gè)絕緣部件形成，以及

至少第一接片組，其包括用于將所述至少一個(gè)絕緣部件緊固到腔室底部的緊固接片。

因此，由于這種構(gòu)造，可以在單一集成部件中將迄今為止由不同部件執(zhí)行的幾種功能組合在一起。特別地，該單件在其下端封閉放電室，并通過(guò)彈性裝配緊固絕緣部件。

此外，由于與腔室底部表面形成單件的這些緊固接片，可以極其快速、輕松和可靠地附接絕緣部件：無(wú)需進(jìn)行膠粘或焊接的技術(shù)操作，無(wú)需制備或干燥時(shí)間，并且大大地降低了組裝失敗的風(fēng)險(xiǎn)。

因此，該腔室底部的構(gòu)造可以降低制造成本和加快生產(chǎn)率。

在一些實(shí)施例中，腔室底部由導(dǎo)電材料制成。因此，可以將陽(yáng)極功能添加到腔室底部，進(jìn)一步減少了推進(jìn)器運(yùn)行所需的部件數(shù)量。

在一些實(shí)施例中，腔室底部由金屬材料制成。

在一些實(shí)施例中，通過(guò)增材制造生產(chǎn)腔室底部。這種制造技術(shù)可以生產(chǎn)具有很大幾何自由度的單件的腔室底部，這可以在同一部件上集成更多功能，并且特別地優(yōu)化推進(jìn)劑氣體在腔室底部的分配。

在一些實(shí)施例中，腔室底部表面在腔室底部的上表面上敞開。

在一些實(shí)施例中，腔室底部表面為環(huán)形，優(yōu)選地旋轉(zhuǎn)對(duì)稱。

在一些實(shí)施例中，腔室底部表面的截面具有通常的U形輪廓。術(shù)語(yǔ)“通常的U形”應(yīng)該理解為是指具有基本處于同一水平的兩端以及在兩端之間具有最小的擴(kuò)展或不擴(kuò)展的任何形狀的中空部的任何形狀。特別地，它旨在包含V形的形狀。

在一些實(shí)施例中，腔室底部表面的截面輪廓具有至少一個(gè)拐點(diǎn)，優(yōu)選地至少兩個(gè)拐點(diǎn)。換句話說(shuō)，腔室底部表面的輪廓不規(guī)則：它可包括一個(gè)或多個(gè)凸起，或甚至形成收縮和/或擴(kuò)大。這些幾何形狀可用于優(yōu)化推進(jìn)劑氣體在放電室中的流動(dòng)。