[發明專利]抗蝕劑下層膜形成用組合物

在審

• 申請號: 202080020807.5
• 申請日: 2020-03-12
• 公開（公告）號: CN113574044A
• 公開（公告）日: 2021-10-29
• 發明（設計）人: 德永光;緒方裕斗;廣原知忠;中島誠
• 申請（專利權）人: 日產化學株式會社
• 主分類號: C07C43/23
• 分類號: C07C43/23;C07C69/767;C08G8/20;C08G59/04;C08L101/00;G03F7/11;G03F7/20;G03F7/26;H01L21/027
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 李淵茹;段承恩

1.一種抗蝕劑下層膜形成用組合物，其包含：

(A)下述式(I)所示的交聯性化合物；以及

(D)溶劑，

式中，m為1～30的整數，

在m＝1時，

T為單鍵、可以被芳香族環中斷的2～6價飽和烴基、可以被氧原子、羰基或亞烷基中斷且可以被烷基或烯基取代的2～6價芳香族基、或可以被氧原子、羰基或亞烷基中斷且可以被烷基或烯基取代的2～6價不飽和環狀烴基，

G¹、G²、和隨著T的價數增加到3以上而存在的G³、G⁴、G⁵、G⁶各自獨立地為

或

n各自獨立地為1～8的整數，

n個R各自獨立地為氫原子、可以被苯基、萘基或蒽基取代且可以被氧原子、氮原子或羰基中斷的、飽和或不飽和的直鏈或支鏈的脂肪族烴基、或脂環式烴基，

A各自獨立地為可以被亞烷基中斷的C₆-C₁₈芳基，

Z¹、Z²、和隨著T的價數增加到3以上而存在的Z³、Z⁴、Z⁵、Z⁶各自獨立地表示可以被氧原子、氮原子或羰基中斷的烷基、或可以被氧原子、氮原子或羰基中斷且可以被羥基、鹵原子、羧基、硝基、氰基、亞甲基二氧基、乙酰氧基、甲硫基、氨基、C₁-C₉烷氧基、烷基、烯基或炔基取代的芳基；

在m＞1時，

m個T為單鍵、可以被芳香族環中斷的2價飽和烴基、可以被氧原子、羰基或亞烷基中斷且可以被烷基或烯基取代的2價芳香族基、或可以被氧原子、羰基或亞烷基中斷且可以被烷基或烯基取代的2價不飽和環狀烴基，

G³Z³、G⁴Z⁴、G⁵Z⁵、G⁶Z⁶不存在，

m個G¹和G²各自獨立地為

或

n、R和A如上述定義的那樣，

Z¹和Z²各自獨立地表示羥基、環氧基或氫原子。

2.根據權利要求1所述的抗蝕劑下層膜形成用組合物，所述A各自獨立地為可以被亞烷基中斷的C₆芳基。

3.根據權利要求1或2所述的抗蝕劑下層膜形成用組合物，其進一步包含(B)與交聯性化合物(A)能夠進行交聯反應的膜材料。

4.根據權利要求3所述的抗蝕劑下層膜形成用組合物，所述能夠進行交聯反應的膜材料(B)包含選自含有脂肪族環的樹脂、酚醛清漆樹脂、聚醚樹脂、聚酯樹脂、丙烯酸系樹脂、甲基丙烯酸系樹脂和與交聯性化合物(A)不同的化合物中的至少一種。