[發明專利]用于檢查物體的設備和方法

在審

• 申請號: 202080019132.2
• 申請日: 2020-03-04
• 公開（公告）號: CN113748328A
• 公開（公告）日: 2021-12-03
• 發明（設計）人: 馬西莫·巴爾杜奇
• 申請（專利權）人: 伊莫拉SACMI機械合作公司
• 主分類號: G01N21/01
• 分類號: G01N21/01;G01N21/84;G01N21/88;G01N21/90;G01N21/95
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 張敬強;張會娟

1.一種用于檢查物體的設備(1)，其中所述物體由第一層塑料材料和第二層EVO或EVOH組成并具有底壁(A)和相對于所述底壁(A)傾斜的側壁(B)，所述設備(1)包括：

-其中能夠放置所述物體以進行檢查的檢查區域(10)；

-用于沿著供給平面(P)將所述物體供給到所述檢查區域(10)的傳送器(12)；

-成像裝置(14)，其被配置為觀察定位在所述檢查區域(10)中的所述物體，捕獲波長在2μm到5μm之間的紅外線，并根據所述紅外線生成所述物體的圖像(143)；

-處理器(151)，其連接至所述成像裝置(14)以接收所生成的圖像(143)并被配置為處理所述圖像(143)，以檢查所述第二層，

所述設備的特征在于，所述傳送器(12)被配置為將所述物體以所述底壁(A)根據相對于所述供給平面(P)的預定取向定位的方式設置在所述檢查區域(10)中。

2.根據權利要求1所述的設備(1)，其特征在于，所述成像裝置沿著檢查軸線定向，并且所述設備包括偏轉系統(18)，所述偏轉系統被配置為攔截由所述物體的所述側壁(B)發射并相對于所述檢查軸線傾斜的紅外線，并使所述紅外線偏轉以減小它們相對于所述檢查軸線的傾斜度。

3.根據權利要求2所述的設備(1)，其特征在于，所述偏轉系統(18)包括第一偏轉器(181)和第二偏轉器(182)，并且所述第一偏轉器(181)被配置為攔截由所述物體的所述側壁(B)發射的紅外線并使該紅外線偏轉到所述第二偏轉器(182)上，所述第二偏轉器(182)被配置為進一步使所述紅外線偏轉，以將它們對準所述成像裝置。

4.根據權利要求3所述的設備(1)，其特征在于，所述第一偏轉器(181)和所述第二偏轉器(182)是對稱軸線與所述檢查軸線(I)對齊的軸對稱體，并且所述第一偏轉器(181)在垂直于所述檢查軸線(I)的平面中圍繞所述第二偏轉器(182)。

5.根據權利要求4所述的設備(1)，其特征在于，所述第一偏轉器(181)包括相應的平滑反射表面，該平滑反射表面圍繞所述檢查軸線(I)并且在從所述檢查區域(10)向所述成像裝置(14)定向的發射方向上會聚在所述檢查軸線(I)上，并且所述第二偏轉器(182)包括圍繞所述檢查軸線(I)并且在所述發射方向上會聚在所述檢查軸線(I)上的平滑反射表面。

6.根據權利要求5所述的設備(1)，其包括熱調節系統(19)，所述熱調節系統(19)包括：

-溫度計(191)，其被配置為測量所述檢查區域(10)的溫度；

-控制單元(15)，其被配置為將所述檢查區域(10)的溫度與參考溫度進行比較并根據比較生成熱調節信號(154D)；

-加熱器(192)，其被配置為根據所述熱調節信號(154D)改變所述檢查區域(10)的溫度。

7.根據權利要求6所述的設備(1)，其包括隔離系統，所述隔離系統包括圍繞所述檢查區域(10)以將其與其周圍環境隔離的至少一個壁(131)。

8.根據前述任一項權利要求所述的設備(1)，其包括發射源(16)，所述發射源(16)被配置為用包括在2μm到5μm之間的波長的紅外光束照射所述檢查區域(10)中的所述物體。

9.根據權利要求8所述的設備(1)，其特征在于，所述發射源(16)是LED光源。

10.根據前述任一項權利要求所述的設備(1)，其包括干涉濾波器(142)，所述干涉濾波器被配置為過濾對準所述攝像機的光波以阻擋波長小于2μm或大于5μm的光波。

11.根據前述任一項權利要求所述的設備(1)，其包括固定透鏡(141)，所述固定透鏡連接至所述成像裝置(14’)并且被配置為對2μm到5μm之間的波長產生影響。