[發明專利]用于基于光刻進行三維部件的生成性制造的方法

在審

• 申請號: 202080017000.6
• 申請日: 2020-02-26
• 公開（公告）號: CN113453874A
• 公開（公告）日: 2021-09-28
• 發明（設計）人: P·格魯貝爾
• 申請（專利權）人: 阿普納米有限責任公司
• 主分類號: B29C64/124
• 分類號: B29C64/124;B33Y10/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 杜荔南;劉春元

1.一種用于基于光刻進行三維部件（3）的生成性制造的方法，其中由輻照裝置發射的電磁輻射相繼地聚焦到材料內的焦點（5）上，由此借助于多光子吸收分別固化所述材料的位于所述焦點（5）處的體積元件，其中在所述輻照裝置的寫區域（4）中由體積元件分別構建子結構（6），

其特征在于，

所述部件的構建包括如下步驟：

a）將多個子結構（6）并排地布置，然后

b）將子結構（6）相疊地布置，使得上部子結構（6）橋接彼此并排布置的下部子結構（6）之間的界面（7）。

2.根據權利要求1所述的方法，

其特征在于，

所述部件包括多個疊置的層（10），所述多個疊置的層分別由多個并排布置的子結構（6）形成，其中所述部件（6）逐層地構建，其中上層（10）的子結構橋接在直接在其下方的層（10）的彼此鄰接的子結構（6）之間的界面（7）。

3.根據權利要求2所述的方法，

其特征在于，

疊置的層（10）之間的界面（11）構成為連續平坦的。

4.根據權利要求1或2所述的方法，

其特征在于，

疊置的子結構（6）之間的界面（11）階梯式地構成。

5.根據權利要求1至4中任一項所述的方法，

其特征在于，

通過改變所述輻照裝置相對于材料的相對位置使所述輻照裝置的寫區域（4）橫向于所述輻照裝置的進入方向（2）移動，以便在構建子結構（6）之后構建下一個位于其旁邊的子結構（6）。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的方法，

其特征在于，

在界面（7）處彼此鄰接的兩個下部子結構（6）分別與橋接該界面（7）的上部子結構（6）重疊至少10%，優選至少30%，特別優選至少40%，尤其是50%。

7.根據權利要求1至6中任一項所述的方法，

其特征在于，

所述子結構（6）和/或層（10）的厚度為小于100μm，優選小于50μm，優選小于30μm，特別是小于10μm。

8.根據權利要求1至7中任一項所述的方法，

其特征在于，

所述材料存在于材料載體上，如例如在盆中，并且從下方通過對于輻射至少分區域可透射的材料載體對材料進行照射。

9.根據權利要求8所述的方法，

其特征在于，

與材料載體間隔地定位構建平臺并且通過固化位于所述構建平臺和所述材料載體之間的材料在構建平臺上構建所述部件。

10.根據權利要求1至9中任一項所述的方法，

其特征在于，

所述焦點（5）的體積在部件的構建期間改變至少一次，使得所述部件（3）由不同體積的固化體積元件構建。

11.根據權利要求10所述的方法，

其特征在于，

所述焦點體積在至少一個、優選地兩個、尤其是在三個彼此垂直的空間方向上變化。

12.根據權利要求1至11中任一項所述的方法，

其特征在于，

電磁輻射借助偏轉單元來偏轉，以便在基本上垂直于進入方向（2）伸展的平面中在所述寫區域（4）內調整所述焦點（5）。

13.一種三維部件（3），其通過根據權利要求1至12中任一項所述方法制造。