[發(fā)明專利]投影透鏡及投影裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202080016948.X
• 申請(qǐng)日: 2020-01-22
• 公開（公告）號(hào): CN113498485A
• 公開（公告）日: 2021-10-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 茅野宏信
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 富士膠片株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G02B7/00
• 分類號(hào): G02B7/00;G02B7/02;G03B21/14
• 代理公司: 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002
• 代理人: 房永峰

1.一種投影透鏡，其安裝于具有電光學(xué)元件的投影裝置的殼體，

該投影透鏡具備：

第一保持部，其保持供沿著來(lái)自所述殼體的光通過(guò)的第一光軸配置的第一光學(xué)系統(tǒng)；

第一反射部，其將所述第一光軸的光彎折而作為第二光軸的光；

第二保持部，其保持所述第一反射部；

透鏡框架，其收容于所述第二保持部?jī)?nèi)，保持沿著所述第二光軸配置的第二光學(xué)系統(tǒng)；以及

透鏡框架固定機(jī)構(gòu)，其將所述透鏡框架固定在所述第二保持部?jī)?nèi)，

所述透鏡框架固定機(jī)構(gòu)將所述透鏡框架固定在所述第二保持部的內(nèi)表面中的、朝向與所述第二光軸交叉的方向的面上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投影透鏡，其中，

具備將所述第二保持部固定在所述第一保持部上的第二保持部固定機(jī)構(gòu)，

所述第一光軸在具有作為光的入射側(cè)的第一A方向和作為光的出射側(cè)的第一B方向的第一方向上延伸，

所述第二保持部通過(guò)所述第二保持部固定機(jī)構(gòu)固定在所述第一保持部的外周面中的、朝向所述第一B方向的端面上，

所述透鏡框架通過(guò)所述透鏡框架固定機(jī)構(gòu)固定在所述第二保持部的內(nèi)表面中的、朝向與所述端面相同的所述第一B方向的面上。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的投影透鏡，其中，

在所述第二光軸延伸的第二方向上，所述第一反射部與所述第二光學(xué)系統(tǒng)不重疊。

4.根據(jù)權(quán)利要求1至權(quán)利要求3中任一項(xiàng)所述的投影透鏡，其中，

構(gòu)成所述第二光學(xué)系統(tǒng)的透鏡的片數(shù)為三片以下。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至權(quán)利要求4中任一項(xiàng)所述的投影透鏡，其中，

所述第一光學(xué)系統(tǒng)具備位于所述第一反射部的上游側(cè)、使中間像成像的中間像成像透鏡。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至權(quán)利要求5中任一項(xiàng)所述的投影透鏡，其中，

所述第二保持部具備將所述第二光軸的光彎折而作為第三光軸的光的第二反射部，所述第一光學(xué)系統(tǒng)中的最上游的透鏡與所述第一反射部之間的所述第一光軸的距離比所述第一反射部與所述第二反射部之間的所述第二光軸的距離長(zhǎng)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的投影透鏡，其中，

所述第二保持部具有一體地保持所述第一反射部和所述第二反射部的一個(gè)保持框架，所述保持框架為樹脂成型品。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的投影透鏡，其中，

在所述保持框架的外周面中，在所述第一光軸的光的出射側(cè)方向上具有開口部，所述開口部具有能夠供所述透鏡框架插通的大小。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的投影透鏡，其中，

具備覆蓋所述開口部的罩部，所述罩部的彎曲剛性比所述保持框架的彎曲剛性低。

10.根據(jù)權(quán)利要求7至權(quán)利要求9中任一項(xiàng)所述的投影透鏡，其中，

還具備沿著所述第三光軸配置的第三光學(xué)系統(tǒng)，

所述保持框架具備與所述第一保持部結(jié)合的第一抵接面、與所述第三光學(xué)系統(tǒng)結(jié)合的第二抵接面、第一開口、第二開口、第三開口以及第四開口，

在與所述第一抵接面對(duì)應(yīng)的位置形成有所述第一開口，

在與所述第一反射部相對(duì)的位置形成有所述第二開口，

在與所述第二抵接面對(duì)應(yīng)的位置形成有所述第三開口，

在與所述第二反射部相對(duì)的位置形成有所述第四開口，

所述第一開口的開口面積比所述第二開口的開口面積大，所述第三開口的開口面積比所述第四開口的開口面積小。

11.一種投影裝置，其具備權(quán)利要求1至權(quán)利要求10中任一項(xiàng)所述的投影透鏡、所述電光學(xué)元件、以及所述殼體。