[發(fā)明專利]從含鎳和鈷的氫氧化物制造含鎳和鈷的溶液的制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202080013276.7 | 申請(qǐng)日: | 2020-03-16 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113474069B | 公開(公告)日: | 2023-04-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 大原秀樹;三條翔太;高野雅俊;淺野聰;小林宙;仙波祐輔;渡邊寬人 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 住友金屬礦山株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | B01D11/04 | 分類號(hào): | B01D11/04;C01G53/00;C22B23/00;C22B3/06;C22B3/22;C22B3/26;C22B3/38;C22B3/44 |
| 代理公司: | 隆天知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003 | 代理人: | 陳曦;向勇 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 氫氧化物 制造 溶液 方法 | ||
1.一種含鈷和鎳的溶液的制造方法,其特征在于,
所述制造方法由以下工序構(gòu)成:
水洗工序,將粗鎳氫氧化物和粗鈷氫氧化物中的至少一者作為起始物質(zhì),將在所述起始物質(zhì)中加入水進(jìn)行攪拌、混合而形成的漿料過濾而得到沉淀物,所述漿料的濃度控制在130g/l~340g/l的范圍內(nèi),將該沉淀物用水洗滌,從該沉淀物中排出作為雜質(zhì)的鎂、鈣中的一種以上,得到水洗后粗氫氧化物,
所述粗鎳氫氧化物包含的鎳比鈷多,所述粗鎳氫氧化物含有:鈷和鎳;以及雜質(zhì),該雜質(zhì)是作為所述鈷和鎳以外的元素的鎂、鈣、鐵、硅、錳、鋅、銅、鋁、鉻中的一種以上,
所述粗鈷氫氧化物包含的鈷比鎳多,所述粗鈷氫氧化物含有:鈷和鎳;以及雜質(zhì),該雜質(zhì)是作為所述鈷和鎳以外的元素的鎂、鈣、鐵、硅、錳、鋅、銅、鋁、鉻中的一種以上;
浸出工序,用酸對(duì)所述水洗后粗氫氧化物進(jìn)行浸出,得到含有作為雜質(zhì)的錳、鎂、鐵、硅、鈣、鋅、鋁、銅、鉻中的一種以上以及鈷和鎳的浸出后液,所述浸出后液的pH控制在0.5~2.1的范圍內(nèi);
中和工序,在所述浸出后液中添加pH調(diào)節(jié)劑進(jìn)行中和處理后,進(jìn)行固液分離處理,去除含有作為雜質(zhì)的鐵、硅、鋁、鉻中的一種以上的中和后殘?jiān)玫街泻秃笠海鲋泻秃笠旱膒H控制在4.6~5.0的范圍內(nèi);以及
萃取工序,對(duì)得到的中和后液進(jìn)行基于萃取劑的溶劑萃取,萃取去除作為雜質(zhì)的錳、鎂、鈣、鋅、銅中的一種以上,得到同時(shí)含有鈷和鎳且減少了雜質(zhì)的含有鈷和鎳的萃取后液,所述萃取后液的pH控制在2.0~2.4的范圍內(nèi)。
2.如權(quán)利要求1所述的含鈷和鎳的溶液的制造方法,其中,
在所述浸出工序中添加還原劑,浸出液的氧化還原電位控制在715[mVvs.NHE]以下。
3.如權(quán)利要求1所述的含鈷和鎳的溶液的制造方法,其中,
所述萃取工序中的萃取劑是含有烷基磷酸酯的有機(jī)溶劑。
4.如權(quán)利要求1所述的含鈷和鎳的溶液的制造方法,其中,
包括:
洗滌工序,將所述萃取工序中得到的萃取后有機(jī)相所含的一部分的鎳和鈷反萃取至水相,將作為雜質(zhì)的錳、鎂、鈣、鋅及銅中的一種以上去除至作為有機(jī)相的洗滌后有機(jī)相中,得到減少了所述雜質(zhì)且含有鎳和鈷的作為所述水相的洗滌后液;以及
反萃取工序,對(duì)所述洗滌后有機(jī)相進(jìn)一步進(jìn)行反萃取,將作為雜質(zhì)的錳、鎂、鈣、鋅及銅反萃取至水相,將所述雜質(zhì)去除至作為所述水相的反萃取后液中,得到減少了所述雜質(zhì)的反萃取后有機(jī)相,
將所述洗滌后液的一部分用作所述浸出工序中的所述酸,
將所述反萃取后有機(jī)相的一部分再次用于所述萃取工序中的萃取劑。
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