[發(fā)明專利]旋轉(zhuǎn)電機在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202080012612.6 | 申請日: | 2020-01-24 |
| 公開(公告)號: | CN113412570A | 公開(公告)日: | 2021-09-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 福島明;高橋裕樹 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社電裝 |
| 主分類號: | H02K1/27 | 分類號: | H02K1/27 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人: | 胡曼 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 旋轉(zhuǎn) 電機 | ||
1.一種旋轉(zhuǎn)電機,所述旋轉(zhuǎn)電機(10)包括勵磁元件(40)和電樞(50),所述勵磁元件具有磁體部(1000),所述磁體部包含極性在周向上交替的多個磁極,所述電樞具有在徑向上與所述磁體部相對配置的多相的電樞繞組(51),將所述勵磁元件和所述電樞中的任一個設(shè)為轉(zhuǎn)子,
所述磁體部是沿著易磁化軸形成有磁體磁路的取向磁體,所述易磁化軸至少在磁極中心即d軸和所述磁體部的電樞側(cè)周面(1002)的交點(P1)處,相對于d軸在規(guī)定角度范圍內(nèi)具有傾斜角度。
2.如權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)電機,其特征在于,
在所述磁體部中,多個圓弧狀的易磁化軸以預(yù)先設(shè)定好的取向中心點(C10)為中心,同心狀地排列,
所述取向中心點在徑向上設(shè)定于比所述磁體部的電樞側(cè)周面靠近所述電樞側(cè)的位置。
3.如權(quán)利要求2所述的旋轉(zhuǎn)電機,其特征在于,
所述取向中心點設(shè)定成使取向中心偏移比處于規(guī)定范圍內(nèi),所述取向中心偏移比是從所述磁體部的電樞側(cè)周面到所述取向中心點的徑向尺寸(H10)除以相鄰的q軸之間的所述磁體部的電樞側(cè)周面的周向圓弧長度(W10)而得到的值。
4.如權(quán)利要求3所述的旋轉(zhuǎn)電機,其特征在于,
所述勵磁元件具有磁體保持部(43),該磁體保持部與所述磁體部的外周面或者內(nèi)周面抵接從而固定所述磁體部,
所述磁體保持部是非磁性體并且相對于所述磁體部配置于電樞相反側(cè),
所述取向中心偏移比為百分之四以上且百分之十八以下。
5.如權(quán)利要求3所述的旋轉(zhuǎn)電機,其特征在于,
所述勵磁元件具有磁體保持部(43),該磁體保持部與所述磁體部的外周面或者內(nèi)周面抵接從而固定所述磁體部,
所述磁體保持部是磁性體并且相對于所述磁體部配置于電樞相反側(cè),
所述取向中心偏移比為百分之一以上且百分之七以下。
6.如權(quán)利要求1~5中任一項所述的旋轉(zhuǎn)電機,其特征在于,
在所述磁體部的電樞相反側(cè)周面(1004)上,在d軸側(cè)的部分設(shè)有沿著徑向凹陷的凹部(1003)。
7.如權(quán)利要求1~6中任一項所述的旋轉(zhuǎn)電機,其特征在于,
所述磁體部中,易磁化軸排列成與磁極邊界即q軸側(cè)相比,在磁極中心即d軸側(cè)更接近平行于d軸。
8.如權(quán)利要求1~7中任一項所述的旋轉(zhuǎn)電機,其特征在于,
在所述磁體部的電樞側(cè)周面上,在磁極邊界即q軸側(cè)的部分設(shè)有沿著徑向凹陷的凹部(1005)。
9.如權(quán)利要求1~8中任一項所述的旋轉(zhuǎn)電機,其特征在于,
所述磁體部具有:配置于磁極中心即d軸側(cè)的第一磁體(1021);以及配置于磁極邊界即q軸側(cè)的第二磁體(1023),
所述第一磁體的易磁化軸排列成,與所述第二磁體的易磁化軸相比,更接近平行于所述磁體部的磁極中心即d軸,并且排列成至少在所述交點處,相對于d軸在規(guī)定角度范圍內(nèi)具有傾斜角度。
10.如權(quán)利要求1~9中任一項所述的旋轉(zhuǎn)電機,其特征在于,
所述磁體部的內(nèi)稟矯頑力在400[kA/m]以上,并且殘留磁通密度在1.0[T]以上。
11.如權(quán)利要求1~10中任一項所述的旋轉(zhuǎn)電機,其特征在于,
所述電樞繞組具有導(dǎo)線部(81、82),該導(dǎo)線部在與所述勵磁元件相對的位置處以規(guī)定間隔沿周向配置,
所述導(dǎo)線部的徑向的厚度尺寸比一磁極內(nèi)的與一相對應(yīng)的周向的寬度尺寸小。
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