[發明專利]用于狹縫模涂布的剝離層形成用組合物和剝離層

有效

• 申請號: 202080011017.0
• 申請日: 2020-01-22
• 公開（公告）號: CN113365742B
• 公開（公告）日: 2023-04-18
• 發明（設計）人: 進藤和也;江原和也
• 申請（專利權）人: 日產化學株式會社
• 主分類號: B05D1/26
• 分類號: B05D1/26;B05D5/00;B32B27/00;C08G73/06;C08K5/42;C08L33/16;C09D179/04;C08L79/04;B32B37/26
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 何楊

1.用于狹縫模涂布的剝離層形成用組合物，其包含：

(A)包含由下述式(1)表示的重復單元的聚脲，

(B)酸化合物或其鹽，

(C)選自具有羥基烷基和/或烷氧基甲基取代的氮原子的化合物、下述式(C-5)表示的化合物和下述式(C-6)表示的化合物中的交聯劑，

(D)包含由下述式(a1)表示的重復單元、由下述式(b)表示的重復單元和由下述式(c)表示的重復單元的高分子添加劑，和

(E)包含至少一種20℃下的蒸汽壓為800Pa以下的溶劑的溶劑，

相對于(A)聚脲100質量份，包含3～100質量份的(D)高分子添加劑，

[化1]

式中，A¹、A²、A³、A⁴、A⁵和A⁶各自獨立地為氫原子、甲基或乙基，

X¹為由下述式(1-1)、(1-2)、(1-3)或(1-4)表示的基團，

[化2]

式中，R¹和R²各自獨立地為氫原子、碳數1～6的烷基、碳數3～6的烯基、芐基或苯基，所述苯基可被選自由碳數1～6的烷基、鹵素原子、碳數1～6的烷氧基、硝基、氰基、羥基和碳數1～6的烷硫基組成的組中的至少一種基團取代，另外，R¹和R²可相互結合以與它們結合的碳原子一起形成碳數3～6的環，R³為碳數1～6的烷基、碳數3～6的烯基、芐基或苯基，所述苯基可被選自由碳數1～6的烷基、鹵素原子、碳數1～6的烷氧基、硝基、氰基、羥基和碳數1～6的烷硫基組成的組中的至少一種基團取代，

Q¹為由下述式(1-5)或(1-6)表示的基團，

[化3]

式中，X²為由式(1-1)、式(1-2)或式(1-4)表示的基團，Q²為碳數1～10的亞烷基、亞苯基、亞萘基或亞蒽基，所述亞苯基、亞萘基和亞蒽基可被選自由碳數1～6的烷基、鹵素原子、碳數1～6的烷氧基、硝基、氰基、羥基和碳數1～6的烷硫基組成的組中的至少一種基團取代，n¹和n²各自獨立地為0或1，

[化4]

式中，R^A各自獨立地為氫原子或甲基，R^B1為至少一個氫原子被氟原子取代的碳數3或4的分支狀的烷基，R^C為碳數1～10的羥基烷基，R^D為碳數6～20的多環式烷基或碳數6～12的芳基，

式中，R²⁹～R³⁶各自獨立地為氫原子或碳數1～6的烷基。

2.根據權利要求1所述的用于狹縫模涂布的剝離層形成用組合物，其中，在(D)高分子添加物的由式(b)表示的重復單元中，R^C為碳數2～10的羥基烷基，羥基結合的碳原子為仲碳原子，并且由式(a1)表示的重復單元的含有比例在(D)高分子添加物的全部重復單元中為30摩爾％以上。

3.根據權利要求1或2所述的用于狹縫模涂布的剝離層形成用組合物，其中，X¹為由式(1-3)表示的基團。

4.根據權利要求3所述的用于狹縫模涂布的剝離層形成用組合物，其中，R³為2-丙烯基。

5.根據權利要求1所述的用于狹縫模涂布的剝離層形成用組合物，其中，Q¹為由式(1-5)表示的基團。

6.根據權利要求1所述的用于狹縫模涂布的剝離層形成用組合物，其中，(B)成分為磺酸化合物或其鹽。