[發(fā)明專利]具備釉藥層的物品在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202080005246.1 | 申請(qǐng)日： | 2020-03-06 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN112839918A | 公開(kāi)（公告）日： | 2021-05-25 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 清水哲;長(zhǎng)谷川綾子 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | TOTO株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào)： | C04B41/86 | 分類號(hào)： | C04B41/86 |
| 代理公司： | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人： | 呂琳;樸秀玉 |
| 地址： | 日本福岡*** | 國(guó)省代碼： | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū)： | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū)： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 具備 釉藥層 物品 | ||
1.一種物品，其特征在于，具備基材和設(shè)于該基材表面的釉藥層，
所述物品具備以下性狀：
所述釉藥層的表面的60°光澤度為大于20且50以下，
使用依據(jù)JIS B0651 2001的觸針式表面粗糙度測(cè)定裝置且由JIS B0601 2001規(guī)定的、所述釉藥層的表面的粗糙度曲線的均方根斜率RΔq的變異系數(shù)為0.04以上且0.1以下，并且
使用依據(jù)JIS B0651 2001的觸針式表面粗糙度測(cè)定裝置且由JIS B0601 2001規(guī)定的、所述釉藥層的表面的算術(shù)平均粗糙度Ra為0.0μm以上且0.5μm以下，
在此，所述RΔq的變異系數(shù)設(shè)為將評(píng)價(jià)長(zhǎng)度為0.8mm、截止值λc為0.8mm、截止值λs為0.0025mm、濾波器類別為高斯濾波器、截面曲線的校正為整體的斜率校正作為測(cè)定條件，并且測(cè)定50mm×50mm內(nèi)的任意10處的RΔq值，計(jì)算出其平均值和標(biāo)準(zhǔn)偏差，據(jù)此求出標(biāo)準(zhǔn)偏差/平均值的值，
所述Ra設(shè)為將評(píng)價(jià)長(zhǎng)度為15mm、截止值λs為1mm、截止值λc為3mm、濾波器類別為高斯濾波器、截面曲線的校正為整體的斜率校正作為測(cè)定條件，并且測(cè)定50mm×50mm內(nèi)的任意5處的Ra值的平均值。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的物品，其中，
所述算術(shù)平均粗糙度Ra為0.0μm以上且0.3μm以下。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的物品，其中，
所述表面的氣泡面積率為0.0％以上且小于2.0％。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的物品，其中，
所述表面的由JIS B0601 2001規(guī)定的Rz和Rsk在由JIS B0633 2001規(guī)定的條件下測(cè)定時(shí)為1.4μm≤Rz＜2.4μm且－1.1＜Rsk＜0.2。
5.一種物品的制造方法，所述物品為權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的物品，所述制造方法包括：
準(zhǔn)備具備釉藥層的物品，通過(guò)濕式噴砂對(duì)所述釉藥層的表面進(jìn)行處理。
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