[發明專利]用于在工作平面中產生線性強度分布的裝置

有效

• 申請號: 202080001476.0
• 申請日: 2020-03-13
• 公開（公告）號: CN112262338B
• 公開（公告）日: 2022-10-28
• 發明（設計）人: M·伊萬嫩科;V·格林;M·維澤爾;H·卡利斯;F·加斯曼;F·賽克
• 申請（專利權）人: LIMO顯示有限責任公司
• 主分類號: G02B27/09
• 分類號: G02B27/09;B23K26/00;G02B13/08
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 劉曾

1.用于在工作平面(20)中產生線性強度分布的裝置，包括

-至少一個激光光源(11)，在所述裝置工作期間，從所述激光光源發射光(12)，

-光學器件(14)，所述光學器件在第一方向(X)和/或在第二方向(Y)上相對于光束橫截面和發散對由所述至少一個激光光源(11)發射的光(12)進行成形，所述兩個方向(X、Y)彼此垂直并且垂直于所述光(12)的傳播方向(Z)，所述工作平面(20)中的所述第一方向(X)對應于線縱向方向并且所述第二方向(Y)對應于線橫向方向，以及

-光束變換裝置(13)，由所述光學器件(14)成形的所述光(12)照射在所述光束變換裝置上，在所述裝置工作期間，所述光束變換裝置(13)在所述第一方向(X)上增大所述光束質量因子(M_x²)，并且在所述第二方向(Y)上減小所述光束質量因子(M_y²)，

其特征在于，所述裝置包括作用在所述第二方向(Y)上的物鏡(17)和作用在所述第二方向(Y)上的聚焦裝置(18)，所述聚焦裝置布置在所述物鏡(17)后方，其中，所述物鏡(17)和所述聚焦裝置(18)將所述光束變換裝置(13)后方的平面(19)成像到所述工作平面(20)中，在所述光束變換裝置中，所述第二方向(Y)上的所述光(12)的強度分布具有超高斯輪廓。

2.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述物鏡(17)是長焦距物鏡(17)。

3.根據權利要求2所述的裝置，其特征在于，所述物鏡(17)的焦距(f’₁₇)在2000mm與30000mm之間。

4.根據權利要求2所述的裝置，其特征在于，所述物鏡(17)的焦距(f’₁₇)在5000mm與20000mm之間。

5.根據權利要求2所述的裝置，其特征在于，所述物鏡(17)的焦距(f’₁₇)在7000mm與13000mm之間。

6.根據權利要求1至5中的任一項所述的裝置，其特征在于，所述物鏡(17)包括至少兩個透鏡。

7.根據權利要求1至5中的任一項所述的裝置，其特征在于，所述物鏡(17)包括三個透鏡。

8.根據權利要求1至5中的任一項所述的裝置，其特征在于，所述聚焦裝置(18)包括作用在所述第二方向(Y)上的一個或多個透鏡。

9.根據權利要求1至5中的任一項所述的裝置，其特征在于，所述物鏡(17)的后焦平面(F’₁₇)與所述聚焦裝置(18)的前焦平面(F₁₈)重合。

10.根據權利要求1至5中的任一項所述的裝置，其特征在于，由所述物鏡(17)和所述聚焦裝置(18)在所述工作平面(20)中成像的所述平面(19)布置在所述物鏡(17)的前焦平面(F₁₇)和所述物鏡(17)的第一透鏡之間。

11.根據權利要求1至5中的任一項所述的裝置，其特征在于，在所述工作平面(20)中，所述強度分布的輪廓的景深大于0.1mm，在所述工作平面(20)中所述超高斯系數G大于3。

12.根據權利要求1至5中的任一項所述的裝置，其特征在于，所述強度分布，在所述工作平面(20)中的強度大于在緊鄰其前方或后方布置的平面中的強度。

13.根據權利要求1至5中的任一項所述的裝置，其特征在于，所述激光光源(11)是多模激光光源。

14.根據權利要求1至5中的任一項所述的裝置，其特征在于，所述光學器件(14)是變形光學器件(14)。