[實(shí)用新型]電纜導(dǎo)體制作設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202023351624.8 | 申請日: | 2020-12-31 |
| 公開(公告)號: | CN213583255U | 公開(公告)日: | 2021-06-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 何夢林;李皓 | 申請(專利權(quán))人: | 中科晶益(東莞)材料科技有限責(zé)任公司 |
| 主分類號: | H01B13/00 | 分類號: | H01B13/00 |
| 代理公司: | 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 嚴(yán)誠 |
| 地址: | 523710 廣東省東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電纜 導(dǎo)體 制作 設(shè)備 | ||
1.一種電纜導(dǎo)體制作設(shè)備,其特征在于,包括:
密封室(100)、放卷裝置(300)以及收卷裝置(400);
所述放卷裝置(300)以及所述收卷裝置(400)設(shè)置在所述密封室(100)內(nèi),所述放卷裝置(300)以及所述收卷裝置(400)之間形成反應(yīng)空間;
所述收卷裝置(400)用于通過所述反應(yīng)空間收卷卷繞在所述放卷裝置(300)上的金屬芯;所述反應(yīng)空間用于供所述金屬芯進(jìn)行反應(yīng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電纜導(dǎo)體制作設(shè)備,其特征在于:
所述電纜導(dǎo)體制作設(shè)備還包括依次間隔設(shè)置在所述反應(yīng)空間的第一隔板(200)、第二隔板(210)以及第三隔板(220);
所述第一隔板(200)與所述第二隔板(210)之間形成高溫退火腔(230),所述高溫退火腔(230)用于供所述金屬芯進(jìn)行高溫退火,以形成單晶金屬芯;
所述第二隔板(210)與所述第三隔板(220)之間形成二維材料覆膜腔(240),所述二維材料覆膜腔(240)用于供所述單晶金屬芯的表面反應(yīng)生成單晶二維材料膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電纜導(dǎo)體制作設(shè)備,其特征在于:
所述電纜導(dǎo)體制作設(shè)備還包括惰性氣體管道系統(tǒng)(500),所述惰性氣體管道系統(tǒng)(500)與所述高溫退火腔(230)連通,以向所述高溫退火腔(230)輸送惰性氣體。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電纜導(dǎo)體制作設(shè)備,其特征在于:
所述二維材料覆膜腔(240)為CVD反應(yīng)腔。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電纜導(dǎo)體制作設(shè)備,其特征在于:
所述電纜導(dǎo)體制作設(shè)備還包括CVD反應(yīng)氣體管道系統(tǒng)(600),所述CVD反應(yīng)氣體管道系統(tǒng)(600)與所述二維材料覆膜腔(240)連通,以向所述二維材料覆膜腔(240)輸送CVD反應(yīng)氣體。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的電纜導(dǎo)體制作設(shè)備,其特征在于:
所述放卷裝置(300)包括可轉(zhuǎn)動地設(shè)置在所述密封室(100)內(nèi)的放卷輪,所述收卷裝置(400)包括可轉(zhuǎn)動地設(shè)置在所述密封室(100)內(nèi)的收卷輪;所述放卷輪與所述收卷輪同步轉(zhuǎn)動。
7.根據(jù)權(quán)利要求2-5任一項(xiàng)所述的電纜導(dǎo)體制作設(shè)備,其特征在于:
所述第一隔板(200)設(shè)置有第一缺口(201),所述第二隔板(210)設(shè)置有第二缺口(211),所述第三隔板(220)設(shè)置有第三缺口(221),所述第一缺口(201)、所述第二缺口(211)以及所述第三缺口(221)依次對應(yīng),以共同供所述金屬芯穿過。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的電纜導(dǎo)體制作設(shè)備,其特征在于:
所述第一缺口(201)、所述第二缺口(211)以及所述第三缺口(221)的數(shù)量分別為多個,多個所述第一缺口(201)、多個所述第二缺口(211)以及多個所述第三缺口(221)一一對應(yīng)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的電纜導(dǎo)體制作設(shè)備,其特征在于:
多個所述第一缺口(201)沿所述第一隔板(200)的高度方向間隔設(shè)置。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的電纜導(dǎo)體制作設(shè)備,其特征在于:
所述放卷裝置(300)的數(shù)量為多個,所述收卷裝置(400)的數(shù)量為多個;多個所述放卷裝置(300)與多個所述第一缺口(201)一一對應(yīng),多個所述收卷裝置(400)與多個所述第三缺口(221)一一對應(yīng)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中科晶益(東莞)材料科技有限責(zé)任公司,未經(jīng)中科晶益(東莞)材料科技有限責(zé)任公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202023351624.8/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗(yàn)設(shè)備、驗(yàn)證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點(diǎn)設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





