[實用新型]一種晶片清洗治具

有效

• 申請號: 202023278615.0
• 申請日: 2020-12-30
• 公開（公告）號: CN214184370U
• 公開（公告）日: 2021-09-14
• 發明（設計）人: 劉勝男;鄧天將
• 申請（專利權）人: 湖南科鑫泰電子有限公司
• 主分類號: B08B3/14
• 分類號: B08B3/14;B08B13/00
• 代理公司: 長沙明新專利代理事務所(普通合伙) 43222
• 代理人: 徐新

本實用新型公開了一種晶片清洗治具，包括清洗底座、清洗盤，所述清洗底座呈頂面及一端側面呈敞口的腔體結構；所述清洗底座側面敞口處且靠近頂面敞口位置從外向內延伸設有第一安裝槽，所述清洗盤裝配在第一安裝槽內，并覆蓋清洗底座頂面的敞口，清洗盤端面陣列分布有用于放置晶片的放置槽；所述清洗底座頂面靠近側面敞口處從上至下設有第二安裝槽，并在第二安裝槽內插設有封板，該封板將清洗盤固定在清洗底座內部；所述清洗底座下端面正對清洗盤的位置設有漏水槽。本實用新型在方便將清洗盤安裝的同時能夠根據需要更換不同規格的清洗盤用于不同規格晶片的清洗，提高清洗治具的適性應。

技術領域

本實用新型涉及石英晶片加工設備技術領域，尤其涉及一種晶片清洗治具。

背景技術

石英晶體不僅具有壓電效應，而且還具有優良的機械特性、電學特性和溫度特性。利用石英晶體本身的物理特性制作的電子元件，在穩頻和選頻方面都有突出的優點。隨著晶片行業競爭的日趨激烈，如何提高工作效率、降低成本、提高產品品質，以提高在同行業中的競爭力，已經成了每個晶片企業都將面臨的難題，而晶片在拋光前或拋光后都需要對其進行清洗，但是傳統的清洗治具存在清洗不干凈，排水難的問題，而且同一治具只能對同一類規格尺寸的晶片進行清洗，適應性不高。

實用新型內容

本實用新型旨在一定程度上解決上述存在的技術問題，提供一種晶片清洗治具。

本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是：提供一種晶片清洗治具，包括清洗底座、清洗盤，所述清洗底座呈頂面及一端側面呈敞口的腔體結構；所述清洗底座側面敞口處且靠近頂面敞口位置從外向內延伸設有第一安裝槽，所述清洗盤裝配在第一安裝槽內，并覆蓋清洗底座頂面的敞口，清洗盤端面陣列分布有用于放置晶片的放置槽；所述清洗底座頂面靠近側面敞口處從上至下設有第二安裝槽，并在第二安裝槽內插設有封板，該封板將清洗盤固定在清洗底座內部；所述封板外部正對清洗盤的位置設有頂桿，頂桿穿過封板與清洗盤螺紋連接；所述清洗底座下端面正對清洗盤的位置設有漏水槽。

優選的，所述清洗底座位于第一安裝槽下方的位置設有第三安裝槽，所述第三安裝槽內裝配有過濾裝置。采用該結構能夠起到防止晶片流失的效果，避免晶片在沖洗時因外部灰塵洗除后其體積變小而從清洗盤上沖走。

優選的，所述清洗底座內部位于過濾裝置下方的位置設有導流板。采用該結構在沖洗時的水流通過導流板排出清洗底座內部，避免內部積水。

優選的，所述過濾裝置包括過濾盤、過濾網，所述過濾網螺栓安裝在過濾盤上，所述過濾盤端面向上延伸設有支撐桿，該支撐桿抵緊清洗盤底面。采用該結構能夠方便過濾網的更換，同時通過支撐桿為清洗盤提供支撐力，避免清洗時清洗盤受力變形。

優選的，所述過濾網面積大于清洗盤面積，并覆蓋清洗盤。如此保證晶體的過濾效果。

優選的，所述清洗底座頂面圍繞敞口設有插槽，并在插槽內插設有擋板。采用該結構在清洗水流沖擊力大時可以放置擋板，避免晶片受力飛濺出清洗盤。

優選的，所述清洗底座側面向外延伸形成安裝座。如此能夠便于清洗底座的安裝固定。

與現有技術相比具有的有益效果為：本實用新型清洗盤通過封板限位在清洗底座內，并與頂桿螺紋連接固定在清洗底座內，待清洗的晶片放置在清洗盤的放置槽上，清洗的水會從清洗底座的漏水槽只排出，從而將清洗治具分為相互組裝的部件，便于各部件的拆裝更換，而且在方便將清洗盤安裝的同時能夠根據需要更換不同規格的清洗盤用于不同規格晶片的清洗，提高清洗治具的適性應。

同時本實用新型的附加方面和優點將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本實用新型的實踐到。

附圖說明