[實用新型]一種用于改善晶圓干燥模組潔凈度的機構

有效

• 申請號: 202023272270.8
• 申請日: 2020-12-30
• 公開（公告）號: CN214250516U
• 公開（公告）日: 2021-09-21
• 發明（設計）人: 鄧信甫;周乾;劉大威;陳丁堃
• 申請（專利權）人: 上海至純潔凈系統科技股份有限公司;至微半導體（上海）有限公司
• 主分類號: F26B25/00
• 分類號: F26B25/00;C30B33/00
• 代理公司: 上海申新律師事務所 31272
• 代理人: 沈棟棟

本實用新型公開了一種用于改善晶圓干燥模組潔凈度的機構，涉及到半導體技術領域，包括干燥模組殼體以及設于干燥模組殼體內的晶圓干燥槽體，還包括第一導流板、第二導流板和集液槽圍板，干燥模組殼體的兩側設有兩第一導流板和兩第二導流板，每一第一導流板的一側分別與干燥模組殼體連接，每一第一導流板的另一側分別與一第二導流板的一側連接，集液槽圍板設于晶圓干燥槽體的兩側，每一集液槽圍板與晶圓干燥槽體之間分別形成一集液槽，每一第二導流板的一側分別延伸至一集液槽的上側。其能夠有效的降低液體滴落反濺的可能性，即便回彈的現象產生，也會被第一導流板遮擋，能夠有效的防止液體滴落對晶圓盒或晶圓的潔凈度產生的不利影響。

技術領域

本實用新型涉及到半導體技術領域，尤其涉及到一種用于改善晶圓干燥模組潔凈度的機構。

背景技術

在半導體制造領域,尤其是半導體濕法工藝的制造領域范疇,主要是透過晶圓在進行濕法工藝后需要進行干燥工藝的過程,接續在晶圓產品在進行收獲的過程中,需要進行晶圓表面的潔凈度與清洗能力等的確認,確保晶圓在進行濕法工藝的可用性與工藝能力的再現性。

現有技術中晶圓盒或晶圓進行清洗后，通過機械手夾持至干燥模組內進行干燥處理，然而機械手夾持晶圓或晶圓盒至干燥模組內時，由于機械手、晶圓盒或晶圓的表面的水滴的滴落易造成二次污染，會嚴重影響晶圓盒或晶圓表面的潔凈度。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種用于改善晶圓干燥模組潔凈度的機構，用于解決上述技術問題。

本實用新型采用的技術方案如下：

一種用于改善晶圓干燥模組潔凈度的機構，包括干燥模組殼體以及設于所述干燥模組殼體內的晶圓干燥槽體，還包括第一導流板、第二導流板和集液槽圍板，其中，所述干燥模組殼體的兩側設有兩所述第一導流板和兩所述第二導流板，其中，每一所述第一導流板的一側分別與所述干燥模組殼體連接，每一所述第一導流板的另一側分別與一所述第二導流板的一側連接，所述集液槽圍板設于所述晶圓干燥槽體的兩側，且每一所述集液槽圍板與所述晶圓干燥槽體之間分別形成一集液槽，每一所述第二導流板的一側分別延伸至一所述集液槽的上側。

作為優選，每一所述第一導流板以及每一所述第二導流板分別由上至下向靠近所述集液槽的方向傾斜設置。

作為進一步的優選，每一所述第一導流板的傾斜角度分別小于所述第二導流板的傾斜角度。

作為進一步的優選，每一所述第一導流板的傾斜角度均為20°～40°。

作為進一步的優選，每一所述第二導流板的傾斜角度均為50°～70°。

作為優選，每一所述第一導流板以及每一所述第二導流板均為聚偏二氟乙烯材料或聚四氟乙烯材料制作。

作為優選，每一所述集液槽的底部分別設有一傾斜的槽道。

作為進一步的優選，還包括液體回收管道，每一所述集液槽的底部分別設有一所述液體回收管道，且所述液體回收管道與所述槽道連通。

作為優選，每一所述集液槽均為聚偏二氟乙烯材料或聚四氟乙烯材料制作。

上述技術方案具有如下優點或有益效果：

本實用新型中，設置第一導流板和第二導流板，且第一導流板與第二導流板之間形成交錯型防濺道，能夠有效的降低液體滴落反濺的可能性，即便回彈的現象產生，也會被第一導流板遮擋，能夠有效的防止液體滴落對晶圓盒或晶圓的潔凈度產生的不利影響。

附圖說明

圖1是本實用新型用于改善晶圓干燥模組潔凈度的機構的立體圖；

圖2是本實用新型中的集液槽與晶圓干燥槽體連接的結構示意圖。