[實用新型]一種大變倍比的新型變焦振鏡系統

有效

• 申請號: 202023197306.0
• 申請日: 2020-12-24
• 公開（公告）號: CN213934387U
• 公開（公告）日: 2021-08-10
• 發明（設計）人: 劉鳳峰;蔡志濤
• 申請（專利權）人: 像素光學（深圳）有限公司
• 主分類號: G02B26/08
• 分類號: G02B26/08;G02B15/14
• 代理公司: 深圳市海盛達知識產權代理事務所(普通合伙) 44540
• 代理人: 趙雪佳

本實用新型公開了一種大變倍比的新型變焦振鏡系統，包括調焦鏡組件和活動透鏡，所述調焦鏡組件一端連接有振鏡組件，且振鏡組件一側設置有變焦場鏡組件，所述變焦場鏡組件一端設置有固定透鏡，且變焦場鏡組件另一端固定有連接塊，所述連接塊表面開設有螺紋。該大變倍比的新型變焦振鏡系統，改變了現有變焦振鏡系統的實質結構設計和組件裝配，使其能放大現有變焦振鏡系統焦距調節范圍。創造性在于首次提出了一種二次變焦的技術方案，即在使用一組調焦鏡變焦后，又使用一個變焦場鏡做二次變焦，獲得更大的實際變焦范圍，實用性在于工作性能優于現有的變焦振鏡系統，加大的焦距調節范圍可適用于更廣泛的工作情景，更具有經濟價值。

技術領域

本實用新型涉及激光技術領域，具體為一種大變倍比的新型變焦振鏡系統。

背景技術

變焦振鏡系統由一組振鏡、一個場鏡和一組調焦鏡組成，其工作過程是使用一組調焦鏡改變一束平行激光的發散角，再由一組振鏡改變這束激光的路徑至射向一個工作平面，再由設在工作平面前的一個場鏡將該光束聚焦在工作平面上。

現有的變焦振鏡系統調焦組的變倍比不能做的過大，變倍比過大，則入射到振鏡組的發散角變化過大，這樣激光束通過場鏡聚焦時的聚焦光斑會因為固定焦距場鏡的像差容限沒有那么大而使聚焦光斑變大，從而影響打標效果，針對上述情況，我們推出了一種大變倍比的新型變焦振鏡系統。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種大變倍比的新型變焦振鏡系統，以解決上述背景技術中提出一般的變焦振鏡系統調焦組的變倍比不能做的過大，變倍比過大，則入射到振鏡組的發散角變化過大，這樣激光束通過場鏡聚焦時的聚焦光斑會因為固定焦距場鏡的像差容限沒有那么大而使聚焦光斑變大，從而影響打標效果的問題。

為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案：一種大變倍比的新型變焦振鏡系統，包括調焦鏡組件和活動透鏡，所述調焦鏡組件一端連接有振鏡組件，且振鏡組件一側設置有變焦場鏡組件，所述變焦場鏡組件一端設置有固定透鏡，且變焦場鏡組件另一端固定有連接塊，且連接塊表面開設有螺紋，所述螺紋表面連接有外框，所述外框表面連接有防滑橡膠，且防滑橡膠表面開設有防滑槽，所述活動透鏡安裝于外框內部。

優選的，所述調焦鏡組件與振鏡組件之間處于同一軸線，且振鏡組件設置有兩個。

優選的，所述變焦場鏡組件與固定透鏡之間呈固定連接，且固定透鏡的外口尺寸與變焦場鏡組件的內口尺寸相吻合。

優選的，所述變焦場鏡組件與連接塊之間呈一體化結構，且連接塊呈中空狀結構。

優選的，所述外框通過螺紋與連接塊之間構成固定結構，且外框與連接塊之間呈螺紋連接。

優選的，所述活動透鏡與固定透鏡之間處于平行狀分布，且活動透鏡的中軸線與固定透鏡的中軸線相重合。

與現有技術相比，本實用新型的有益效果是：該大變倍比的新型變焦振鏡系統，改變了現有變焦振鏡系統的實質結構設計和組件裝配，使其能放大現有變焦振鏡系統焦距調節范圍。創造性在于首次提出了一種二次變焦的技術方案，即在使用一組調焦鏡變焦后，又使用一個變焦場鏡做二次變焦，因為這種二次變焦的技術方案將一個長距離變焦任務，拆解成兩個較短變焦距離的任務，所以相比于現有的一次變焦方案，在單個變焦機構性能保持不變時，通過兩個變焦機構的疊加效果以提升整個變焦振鏡系統的實際變倍比，獲得更大的實際變焦范圍，實用性在于工作性能優于現有的變焦振鏡系統，加大的焦距調節范圍可適用于更廣泛的工作情景，更具有經濟價值。

附圖說明

圖1為本實用新型正視立體結構示意圖；

圖2為本實用新型變焦場鏡組件結構示意圖；

圖3為本實用新型側視立體結構示意圖。

圖中：1、調焦鏡組件；2、振鏡組件；3、變焦場鏡組件；4、固定透鏡； 5、連接塊；6、螺紋；7、外框；8、防滑橡膠；9、防滑槽；10、活動透鏡。