[實(shí)用新型]一種靜電吸盤(pán)及等離子體處理設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202023146152.2
• 申請(qǐng)日: 2020-12-24
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN213546294U
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-06-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 毛杰;左濤濤;倪圖強(qiáng)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/683
• 分類號(hào): H01L21/683;H01L21/67;H01J37/32
• 代理公司: 上海元好知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31323
• 代理人: 徐雯瓊;張靜潔

1.一種靜電吸盤(pán)，其特征在于，包括：基底、陶瓷體及層疊體；所述層疊體位于所述基底與所述陶瓷體之間；所述陶瓷體用于承載待處理晶圓；

所述基底內(nèi)開(kāi)設(shè)有液體通道，所述液體通道中通有冷媒以對(duì)所述陶瓷體進(jìn)行冷卻；所述液體通道與冷卻裝置連接，以實(shí)現(xiàn)所述冷媒的氣相與液相之間的切換。

2.如權(quán)利要求1所述的靜電吸盤(pán)，其特征在于，所述層疊體包括加熱器、第一粘合層及第二粘合層，所述第一粘合層位于所述陶瓷體與所述加熱器之間，用于粘合所述陶瓷體與所述加熱器；所述第二粘合層位于所述基底與所述加熱器之間，用于粘合所述基底與所述加熱器。

3.如權(quán)利要求1或2所述的靜電吸盤(pán)，其特征在于，所述冷媒為氟利昂。

4.如權(quán)利要求1所述的靜電吸盤(pán)，其特征在于，所述液體通道的進(jìn)口與冷卻裝置的膨脹閥連通；

所述液體通道的出口與冷卻裝置的壓縮機(jī)連通；

所述膨脹閥通過(guò)冷凝機(jī)與所述壓縮機(jī)連接。

5.如權(quán)利要求4所述的靜電吸盤(pán)，其特征在于，所述冷媒從所述液體通道的出口流出時(shí)，其變?yōu)榈蜏氐蛪簹怏w；

所述壓縮機(jī)用于對(duì)所述低溫低壓氣體進(jìn)行處理輸出高溫高壓氣體；

所述冷凝機(jī)用于對(duì)所述高溫高壓氣體進(jìn)行換熱處理輸出高溫高壓液體，

所述膨脹閥用于對(duì)所述高溫高壓液體進(jìn)行處理得到低溫低壓液體；

所述低溫低壓液體通過(guò)所述液體通道的進(jìn)口通入至所述液體通道內(nèi)，以對(duì)所述陶瓷體進(jìn)行冷卻。

6.如權(quán)利要求5所述的靜電吸盤(pán)，其特征在于，所述液體通道的進(jìn)口和出口開(kāi)設(shè)在所述基底上。

7.如權(quán)利要求6所述的靜電吸盤(pán)，其特征在于，所述液體通道在所述基底內(nèi)沿著曲折路徑彎曲。

8.如權(quán)利要求6所述的靜電吸盤(pán)，其特征在于，所述液體通道為在所述基底中的同一平面內(nèi)，呈螺旋形狀分布的單根液體通道。

9.如權(quán)利要求6所述的靜電吸盤(pán)，其特征在于，所述液體通道為多個(gè)，多個(gè)所述液體通道相互連通；

或者，多個(gè)所述液體通道不連通。

10.一種等離子體處理設(shè)備，其特征在于，包括：真空反應(yīng)腔，以及位于所述真空反應(yīng)腔內(nèi)的如權(quán)利要求1～9中任意一項(xiàng)所述的靜電吸盤(pán)。