[實用新型]包含DFB鐳射鏡面鍍膜的DFB鐳射結構

有效

• 申請號: 202023131466.5
• 申請日: 2020-12-23
• 公開（公告）號: CN213878717U
• 公開（公告）日: 2021-08-03
• 發明（設計）人: 黃國忠;呂一璁;林弘偉
• 申請（專利權）人: 創兆光有限公司
• 主分類號: H01S5/028
• 分類號: H01S5/028;H01S5/12
• 代理公司: 北京尚鉞知識產權代理事務所(普通合伙) 11723
• 代理人: 王海榮

1.一種包含DFB鐳射鏡面鍍膜的DFB鐳射結構，所述DFB鐳射結構包含基板(1)、緩沖層(2)、有源層(3)、光柵層(4)、上波導層(5)、上披覆層(6)以及上、下兩面電極，其特征在于：所述DFB鐳射結構中還包含位于前出光端面的AR低反射鍍膜區域(8)和位于后出光端面的HR高反射鍍膜區域(7)，且所述AR低反射鍍膜區域(8)和HR高反射鍍膜區域(7)以氮化鋁作為鍍膜材料鍍制而成。

2.如權利要求1所述的DFB鐳射結構，其中所述AR低反射鍍膜區域(8)和HR高反射鍍膜區域(7)通過電子槍蒸鍍、漿磁控輔助濺鍍或原子層沉積方式制成。

3.如權利要求1所述的DFB鐳射結構，其中所述AR低反射鍍膜區域(8)位于DFB鐳射結構的前出光端面處，厚度介于10-200nm，反射率1％，其為單層結構、雙層結構或多層結構，所述單層結構以氮化鋁作為鍍膜材料鍍制而成；所述雙層結構包含第一層結構(81)和第二層結構(82)，其中第一層結構(81)為氮化鋁鍍層，第二層結構(82)由折射率小于氮化鋁的材料鍍成，每一層的厚度滿足1/4該介質波長的奇數倍；所述多層結構由位于內側的氮化鋁鍍層和位于外側的兩層以上由折射率小于氮化鋁的材料制成的鍍層堆疊而成，每一層的厚度滿足1/4該介質波長的奇數倍；

其中所述HR高反射鍍膜區域(7)位于DFB鐳射結構的后出光端面處，反射率95％，其為雙層結構或多層結構，所述雙層結構包含第三層結構(71)和第四層結構(72)，其中第三層結構(71)為氮化鋁鍍層，第四層結構(72)由折射率小于氮化鋁的材料鍍成，每一層的厚度滿足1/4該介質波長的奇數倍；所述多層結構由上述第三層結構(71)和第四層結構(72)反覆多層堆疊而形成，每層的厚度為0.1-1μm，且滿足1/4該介質波長的奇數倍。

4.如權利要求3所述的DFB鐳射結構，其中所述折射率小于氮化鋁的材料為SiO₂、SiON或Al₂O₃。

5.如權利要求1所述的DFB鐳射結構，其特征在于：所述DFB鐳射結構經過制程后定義出脊狀波導。

6.如權利要求1所述的DFB鐳射結構，其中所述基板(1)為InP基底。

7.如權利要求1所述的DFB鐳射結構，其中所述光柵層(4)含有1/4相位移結構。