[實用新型]一種磁控濺射鍍膜裝置及系統

有效

• 申請號: 202022957486.1
• 申請日: 2020-12-09
• 公開（公告）號: CN214193438U
• 公開（公告）日: 2021-09-14
• 發明（設計）人: 黃濤;劉佳明;王鵬程;劉順明;譚彪;馬永勝
• 申請（專利權）人: 散裂中子源科學中心;中國科學院高能物理研究所
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/04
• 代理公司: 深圳鼎合誠知識產權代理有限公司 44281
• 代理人: 郭燕

1.一種磁控濺射鍍膜裝置，用于對管道鍍膜，其特征在于，包括升降驅動機構以及鍍膜機構；所述鍍膜機構包括活動在管道外壁的螺線管、伸入管道內部的陰極濺射靶絲、以及為所述陰極濺射靶絲提供電場的陰極電源；所述螺線管在所述升降驅動機構的驅動下，沿管道的軸線方向移動并產生磁場，所述陰極濺射靶絲在電場和磁場作用下對管道內壁進行濺射鍍膜。

2.如權利要求1所述磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述磁控濺射鍍膜裝置還包括基座、以及固定在所述基座上的支撐架；所述支撐架在豎直方向上分別設置有用于對管道兩端進行密封固定的管道固定上端和管道固定下端。

3.如權利要求2所述磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述管道固定上端具有電極導入接頭，所述陰極濺射靶絲通過所述電極導入接頭與所述陰極電源連接。

4.如權利要求3所述磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述陰極濺射靶絲的底部還連接有用于保持陰極濺射靶絲豎直的重錘。

5.如權利要求2所述磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述管道固定下端具有真空抽氣口，用于外接抽真空組件并對管道內部抽真空。

6.如權利要求5所述磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述管道固定上端具有濺射氣體進入口，用于對管道內部填充濺射氣體。

7.如權利要求1所述磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述升降驅動機構包括與管道平行設置的絲桿，所述絲桿上設置有用于承載所述螺線管的螺線管固定托；所述螺線管固定托在所述絲桿的轉動下、沿所述絲桿的軸線方向移動，帶動所述螺線管在管道的軸線方向上平穩移動。

8.如權利要求7所述磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述升降驅動機構還包括用于控制所述絲桿轉動的控制電機，以及用于控制所述絲桿轉動速度的減速機。

9.如權利要求1-8任一項所述磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述螺線管的長度小于管道的長度。

10.一種磁控濺射鍍膜系統，其特征在于，包括如權利要求1-8任一項所述磁控濺射鍍膜裝置。