[實用新型]光投射系統、激光感測模組和電子設備

有效

• 申請號: 202022932421.1
• 申請日: 2020-12-09
• 公開（公告）號: CN213986816U
• 公開（公告）日: 2021-08-17
• 發明（設計）人: 成純森;丁細超;李宗政
• 申請（專利權）人: 江西歐邁斯微電子有限公司
• 主分類號: G01S7/481
• 分類號: G01S7/481;G01S7/484;G01S7/4911;G01S7/495;G01S7/4861;G01S7/4913;G02B27/42;G02B26/00
• 代理公司: 北京恒博知識產權代理有限公司 11528
• 代理人: 范勝祥

本申請公開了一種光投射系統、激光感測模組和電子設備，涉及光學技術領域。本光投射系統包括發射器和光學元件，發射器用于發射單束光線。光學元件包括勻光件，勻光件位于發射器的出光路徑，勻光件將單束光線進行勻光處理后投射出去；或，光學元件包括結構光光學元件，結構光光學元件包括光掩膜和光學衍射元件，光掩膜位于發射器的出光路徑，光掩膜將發射器發射的單束光線轉變為多束光線，光學衍射元件位于光掩膜的出光路徑；或，光學元件包括勻光件和結構光光學元件，結構光光學元件包括光掩膜和光學衍射元件，光投射系統能夠在調節裝置的作用下在第一使用狀態與第二使用狀態之間切換。本光投射系統同時具備遠距離探測和近距離高精度探測的功能。

技術領域

本申請涉及光學技術領域，尤其涉及一種光投射系統、激光感測模組和電子設備。

背景技術

相關技術中，勻光件采用多束光線投射，多束光線投射會使投射的散斑存在水波紋，且探測角落區域時會存在多路徑干擾，嚴重影響探測精度。

現有的結構光光學元件亦采用多光束投射，可實現近距離高精度探測，但散斑尺寸會隨著探測距離的增加而變大，影響投射效果，進一步導致精度下降。光投射系統如何具備良好的投射效果成為待解決的問題。

實用新型內容

本申請實施例提供了一種光投射系統、激光感測模組和電子設備，具備良好的投射效果，所述技術方案如下。

第一方面，本申請實施例提供了一種光投射系統，所述光投射系統包括發射器以及光學元件，所述發射器用于發射單束光線；

所述光學元件包括勻光件，所述勻光件位于所述發射器的出光路徑，所述勻光件用于將所述單束光線進行勻光處理后投射出去；或，

所述光學元件包括結構光光學元件，所述結構光光學元件包括光掩膜和光學衍射元件，所述光掩膜位于所述發射器的出光路徑，所述光掩膜用于將所述發射器發射的單束光線轉變為多束光線，所述光學衍射元件位于所述光掩膜的出光路徑，所述光學衍射元件用于將多束光線進行衍射得到預定斑點圖案后投射出去；或，

所述光學元件包括勻光件和結構光光學元件，所述勻光件與所述結構光光學元件所連成的直線與所述發射器的出光路徑不重合，所述勻光件用于將所述單束光線進行勻光處理后投射出去，所述結構光光學元件包括光掩膜和光學衍射元件，所述光投射系統能夠在調節裝置的作用下在第一使用狀態與第二使用狀態之間切換，其中，所述第一使用狀態下所述勻光件位于所述發射器的出光路徑上，所述第二使用狀態下所述光掩膜位于所述發射器的出光路徑上，所述光掩膜用于將所述單束光線轉變為多束光線，所述光學衍射元件位于所述光掩膜的出光路徑上，所述光學衍射元件用于將多束光線進行衍射得到預定斑點圖案后投射出去。

本申請實施例的有益效果為：所述光投射系統包括發射器及光學元件，光學元件僅包括勻光件，發射器發射單束光線，可避免投射的散斑存在水波紋，可實現遠距離探測，光學元件包括結構光光學元件，結構光光學元件包括光掩膜和光學衍射元件，光掩膜可以將發射器發射的單束光線轉變為多束光線，多束光線通過光線衍射元件投射出去，可實現近距離探測，光學元件包括勻光件和結構光光學元件，結構光光學元件包括光掩膜和光學衍射元件，光掩膜可以將發射器發射的單束光線轉變為多束光線，多束光線通過光線衍射元件投射出去，可同時實現遠距離探測和近距離高精度探測，具體的，通過調節裝置，使光投射系統可以在第一使用狀態與第二使用狀態之間切換，第一使用狀態下調節裝置移動勻光件至發射器的出光路徑上，第二使用狀態下調節裝置移動結構光光學元件至發射器的出光路徑上，通過采用發射單束光線的發射器，使投射出的光斑均勻性最優，增設光掩膜，使單束光可以轉變為多束光投射于結構光組件，最終投射效果更佳。