[實用新型]一種具有小角度效應的高飽和度全介質薄膜

有效

• 申請號: 202022857287.3
• 申請日: 2020-12-02
• 公開（公告）號: CN214252642U
• 公開（公告）日: 2021-09-21
• 發明（設計）人: 盧世義
• 申請（專利權）人: 廣州鑫鉑顏料科技有限公司
• 主分類號: G02B5/28
• 分類號: G02B5/28
• 代理公司: 廣州中研專利代理有限公司 44692
• 代理人: 馬會強

1.一種具有小角度效應的高飽和度全介質薄膜，其特征在于：包括玻璃基層(001)和折射膜層(002)組成，所述折射膜層(002)由多層的高折射率膜層(201)和多層的低折射率膜層(202)交替層疊組成；

所述全介質薄膜的反射率大于85％；

所述全介質薄膜的反射光譜從截止區到高反射區的過段波段斜率為1.1-1.4之間，其中600nm以下波長為截止區間；

所述全介質薄膜反射在600-800nm紅色顏色映射上介于0-45°之間具有偏移色差，Lab*a*b顏色映射在30-45°之間。

2.根據權利要求1所述的具有小角度效應的高飽和度全介質薄膜，其特征在于：所述低折射率膜層(202)的折射率為1.3-2.0，所述高折射率膜層(201)的射率膜層的折射率為2.0-2.8。

3.根據權利要求2所述的具有小角度效應的高飽和度全介質薄膜，其特征在于：所述高折射率膜層(201)為二氧化鈦、二氧化鉿、五氧化二鉭、五氧化二鈮、二氧化鋯、氮化硅、硫化鋅中的一種。

4.根據權利要求3所述的具有小角度效應的高飽和度全介質薄膜，其特征在于：所述低折的射率膜層(202)為二氧化硅、三氧化二鋁、氟化鎂中的一種。

5.根據權利要求3所述的具有小角度效應的高飽和度全介質薄膜，其特征在于：所述高折射率膜層(201)的材質為二氧化鈦；所述低折射率膜層(202)的材質為二氧化硅。