[實用新型]一種電磁屏蔽干擾結(jié)構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202022851720.2 | 申請日： | 2020-12-02 |
| 公開（公告）號： | CN213991559U | 公開（公告）日： | 2021-08-17 |
| 發(fā)明（設計）人： | 萬黎明;邵宏達;魏振興;葉飛;麻斌鑫 | 申請（專利權(quán)）人： | 浙江航天潤博測控技術(shù)有限公司 |
| 主分類號： | H05K9/00 | 分類號： | H05K9/00 |
| 代理公司： | 浙江千克知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 33246 | 代理人： | 趙芳;周雷雷 |
| 地址： | 310000 浙江省杭*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 電磁 屏蔽 干擾 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種電磁屏蔽干擾結(jié)構(gòu)，其特征在于：包括上蓋(1)與下罩(2)，所述下罩(2)與所述上蓋(1)相適配設置，所述上蓋(1)與所述下罩(2)之間設有導電條(3)；所述上蓋(1)與所述下罩(2)均具有內(nèi)腔面且內(nèi)腔面均留有余量設置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電磁屏蔽干擾結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述的內(nèi)腔面留有余量為0.5mm～1.5mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種電磁屏蔽干擾結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述的內(nèi)腔面留有余量為1mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種電磁屏蔽干擾結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述上蓋(1)與所述下罩(2)均由鋁制材質(zhì)制成。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種電磁屏蔽干擾結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述上蓋(1)與所述下罩(2)經(jīng)過陽極氧化表面形成氧化膜(B)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種電磁屏蔽干擾結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述上蓋(1)與所述下罩(2)內(nèi)腔面留有的余量經(jīng)過精加工后表面裸露放置。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種電磁屏蔽干擾結(jié)構(gòu)，其特征在于：裸露放置的所述上蓋(1)與所述下罩(2)清理油污后置入工藝池形成鈍化膜(A)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種電磁屏蔽干擾結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述鈍化膜具有導電性能。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種電磁屏蔽干擾結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述上蓋(1)與所述下罩(2)之間密封安裝形成一個金屬的密閉空間。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電磁屏蔽干擾結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述導電條(3)由硅橡膠材料制成。
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