[實用新型]一種刻蝕水洗裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202022843477.X
• 申請日: 2020-11-30
• 公開（公告）號: CN213752638U
• 公開（公告）日: 2021-07-20
• 發(fā)明（設計）人: 陳沖;楊曉君;仲偉佳;任現坤;宋超;曹振;葛永見;郭瑞靜;韓其家;張洪巖
• 申請（專利權）人: 山東力諾太陽能電力股份有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L31/18
• 代理公司: 濟南舜源專利事務所有限公司 37205
• 代理人: 于曉曉

1.一種刻蝕水洗裝置，其特征在于，所述刻蝕水洗裝置包括刻蝕裝置、水洗裝置、輸送裝置(13)和控制器，所述刻蝕裝置包括第一刻蝕組件(1)和第二刻蝕組件(2)，所述第一刻蝕組件(1)包括若干激光發(fā)生器(4)，所述第二刻蝕組件(2)包括若干激光發(fā)生器(4)；

所述水洗裝置包括對應設置的噴頭和水槽，所述噴頭包括酸洗噴頭(6)和水洗噴頭(8)，所述水槽包括酸洗槽(7)和水洗槽(9)；

所述輸送裝置(13)包括刻蝕輸送輥組、旋轉吸取器(3)和水洗輸送輥組，所述第一刻蝕組件(1)和第二刻蝕組件(2)沿硅片(5)前進方向依次設置在刻蝕輸送輥組上，所述旋轉吸取器(3)設置在第一刻蝕組件(1)和第二刻蝕組件(2)之間，所述水洗輸送輥組設置在所述水槽上方、所述噴頭下方；

所述刻蝕裝置、水洗裝置和輸送裝置(13)分別與控制器電連接。

2.如權利要求1所述的刻蝕水洗裝置，其特征在于，所述第一刻蝕組件(1)、第二刻蝕組件(2)均包括若干組激光發(fā)生器組，每組所述激光發(fā)生器組包括兩個相對設置的激光發(fā)生器(4)，每組激光發(fā)生器組的兩個激光發(fā)生器(4)之間的空間用于放置硅片(5)。

3.如權利要求1所述的刻蝕水洗裝置，其特征在于，所述酸洗噴頭(6)和酸洗槽(7)之間通過酸洗循環(huán)管和泵連通，所述水洗噴頭(8)和水洗槽(9)之間通過水洗循環(huán)管和泵連通。

4.如權利要求1所述的刻蝕水洗裝置，其特征在于，所述旋轉吸取器(3)包括液壓桿(10)和負壓裝置，所述液壓桿(10)底部連接有旋轉驅動件(11)，所述旋轉驅動件(11)底部安裝有吸附板(12)，所述吸附板(12)具有開口朝下的真空腔，所述真空腔通過氣管與負壓裝置連通。

5.如權利要求4所述的刻蝕水洗裝置，其特征在于，所述旋轉驅動件(11)為步進電機。

6.如權利要求4所述的刻蝕水洗裝置，其特征在于，所述真空腔與氣管連接處設置有電磁閥。