[實用新型]凸形內(nèi)撐整形裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202022841031.3 | 申請日： | 2020-12-01 |
| 公開（公告）號： | CN214321374U | 公開（公告）日： | 2021-10-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 李旭輝 | 申請（專利權(quán)）人： | 蘇州領(lǐng)裕電子科技有限公司 |
| 主分類號： | B21D3/16 | 分類號： | B21D3/16;B21C51/00 |
| 代理公司： | 北京商專潤文專利代理事務(wù)所(普通合伙) 11317 | 代理人： | 陳平 |
| 地址： | 215000 江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 凸形內(nèi)撐 整形 裝置 | ||
1.凸形內(nèi)撐整形裝置，其特征在于，包括基座(1)、驅(qū)動條(2)與活動塊(3)，所述驅(qū)動條(2)能夠受驅(qū)動的滑動于所述基座(1)，所述活動塊(3)與所述驅(qū)動條(2)驅(qū)動連接；
所述基座(1)設(shè)有第一整形塊(13)，所述活動塊(3)設(shè)有第二整形塊(31)，所述第一整形塊(13)與所述第二整形塊(31)相配合對工件(10)進(jìn)行整形。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述凸形內(nèi)撐整形裝置，其特征在于，所述驅(qū)動條(2)的側(cè)部設(shè)有傾斜的驅(qū)動面(21)，所述活動塊(3)設(shè)有與之相配合的傾斜的受驅(qū)面(33)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述凸形內(nèi)撐整形裝置，其特征在于，所述驅(qū)動面(21)可呈相對設(shè)置從而形成“V”形槽結(jié)構(gòu)；
所述受驅(qū)面(33)可呈相對設(shè)置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述凸形內(nèi)撐整形裝置，其特征在于，所述活動塊(3)遠(yuǎn)離所述驅(qū)動條(2)的一側(cè)設(shè)有擋條(7)，所述擋條(7)與所述活動塊(3)之間設(shè)有復(fù)位彈簧(4)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述凸形內(nèi)撐整形裝置，其特征在于，所述基座(1)設(shè)有導(dǎo)槽(11)，所述驅(qū)動條(2)可滑動的連接于所述導(dǎo)槽(11)。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述凸形內(nèi)撐整形裝置，其特征在于，所述基座(1)設(shè)有調(diào)節(jié)槽(12)，所述活動塊(3)的滑條部(32)可滑動的連接于所述調(diào)節(jié)槽(12)；
所述滑條部(32)靠近所述驅(qū)動條(2)的端面設(shè)有所述受驅(qū)面(33)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述凸形內(nèi)撐整形裝置，其特征在于，所述驅(qū)動條(2)設(shè)有呈長條形的限位孔(22)，所述基座(1)設(shè)有與之相配合的限位栓(9)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述凸形內(nèi)撐整形裝置，其特征在于，還包括第一氣缸(51)與第二氣缸(52)，所述第一氣缸(51)的輸出端與所述驅(qū)動條(2)的一端驅(qū)動連接，所述第二氣缸(52)的輸出端與所述驅(qū)動條(2)的另一端驅(qū)動連接。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述凸形內(nèi)撐整形裝置，其特征在于，還包括時間繼電器(61)與電磁閥(62)，所述時間繼電器(61)與所述電磁閥(62)電連接，所述電磁閥(62)與相應(yīng)所述第一氣缸(51)與所述第二氣缸(52)驅(qū)動連接。
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