[實(shí)用新型]一種保持環(huán)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202022834071.5
• 申請(qǐng)日: 2020-11-30
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN214322993U
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-10-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 姚力軍;邊逸軍;潘杰;王學(xué)澤;章麗娜
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 寧波江豐電子材料股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): B24B37/32
• 分類(lèi)號(hào): B24B37/32
• 代理公司: 北京遠(yuǎn)智匯知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11659
• 代理人: 王巖

本實(shí)用新型提供了一種保持環(huán)，所述保持環(huán)包括剛性環(huán)和彈性環(huán)，所述剛性環(huán)包括第一粘結(jié)面，在所述第一粘結(jié)面上徑向分布有至少2個(gè)環(huán)形凹槽；所述彈性環(huán)包括第二粘結(jié)面，在所述第二粘結(jié)面上徑向分布有與所述環(huán)形凹槽的相匹配的環(huán)形凸起；所述第一粘結(jié)面上設(shè)置粗糙度Ra為4?8μm的第一噴砂層，所述第二粘結(jié)面上設(shè)置粗糙度Ra為4?8μm的第二噴砂層，所述第一粘結(jié)面與所述第二粘結(jié)面通過(guò)粘結(jié)劑緊貼固定。本實(shí)用新型所述保持環(huán)通過(guò)設(shè)置數(shù)量與軸向截面形狀均相匹配的環(huán)形凹槽以及環(huán)形凸起，并且在兩個(gè)粘結(jié)面上均設(shè)置噴砂層，有效地增加了剛性環(huán)與彈性環(huán)之間的接觸面積，增大了粘結(jié)劑的結(jié)合強(qiáng)度，具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、不易脫膠、粘接牢固的特點(diǎn)。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型屬于化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種保持環(huán)。

背景技術(shù)

集成電路一般通過(guò)在硅襯底上有序地沉積導(dǎo)電、半導(dǎo)電或者絕緣的層來(lái)形成于襯底之上，其中一個(gè)工藝步驟涉及在非平面的表面上沉積填充層，并平面化該填充層直至暴露出所述非平面表面。例如，可以在被圖案化的絕緣層上沉積導(dǎo)電填充層，以填充絕緣層中的溝槽或孔，然后拋光填充層，直至暴露出絕緣層的隆起圖案。平面化之后，留在絕緣層的隆起圖案之間的導(dǎo)電層部分形成通道、插頭和線(xiàn)，為襯底上的薄膜電路之間提供導(dǎo)電通路。此外，平面化還可以用來(lái)光刻平面化襯底表面。

化學(xué)機(jī)械拋光是一種被普遍使用的平面化方法，在化學(xué)機(jī)械拋光時(shí)，拋光頭夾持著晶圓，并將晶圓壓緊在拋光墊上。晶圓在拋光時(shí)容納在拋光頭上的保持環(huán)之中，保持環(huán)起著容納和定位晶圓的作用。在拋光過(guò)程中，拋光液和去離子水不斷的與保持環(huán)接觸，因此保持環(huán)需要具有一定的耐腐蝕性。

現(xiàn)有保持環(huán)是通過(guò)特定的粘接劑將用剛性材料環(huán)和用彈性材料環(huán)粘接在一起形成的保持環(huán)，而此種結(jié)構(gòu)，不僅粘接面積小，使用過(guò)程中容易出現(xiàn)脫膠現(xiàn)象，而且在拋光過(guò)程中，粘接面上的粘接劑容易與外界去離子水、拋光液等化學(xué)物質(zhì)直接接觸，因此經(jīng)若干個(gè)拋光周期后，由于化學(xué)溶液的腐蝕作用，粘接面的粘接劑損壞，上下兩層材料脫開(kāi)，降低了保持環(huán)壽命。

為了提高保持環(huán)的使用壽命，現(xiàn)有技術(shù)開(kāi)發(fā)了一種無(wú)須使用粘結(jié)劑的保持環(huán)。例如CN210757122U公開(kāi)了一種保持環(huán)，包括第一環(huán)形部及第二環(huán)形部，所述第一環(huán)形部由金屬材料制成，所述第二環(huán)形部由非金屬材料制成，所述第一環(huán)形部的至少一面與第二環(huán)形部緊貼固定。先加工得到具有目標(biāo)尺寸的第一環(huán)形部，然后將熔融或半熔融狀態(tài)的非金屬材料與第一環(huán)形部直接結(jié)合，從而模制出期望的保持環(huán)。但是，由于化學(xué)機(jī)械拋光作為一種平面化方法，對(duì)晶圓產(chǎn)品的平面度要求十分嚴(yán)格，因此，用于夾持晶圓的保持環(huán)也需要具有良好的平面度。雖然采用熔融或半熔融狀態(tài)的非金屬材料直接與金屬材料結(jié)合制備保持環(huán)，可以避免使用粘結(jié)劑造成的脫膠風(fēng)險(xiǎn)，但是平面度不易控制，而且制備成本較高。

綜上所述，目前亟需開(kāi)發(fā)一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單且不易脫膠、粘接牢固的保持環(huán)。

實(shí)用新型內(nèi)容

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，本實(shí)用新型的目的在于提供一種新型的保持環(huán)，通過(guò)設(shè)置數(shù)量與軸向截面形狀均相匹配的環(huán)形凹槽以及環(huán)形凸起，并且在兩個(gè)粘結(jié)面上均設(shè)置噴砂層，有效地增加了剛性環(huán)與彈性環(huán)之間的接觸面積，增大了粘結(jié)劑的結(jié)合強(qiáng)度，具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、不易脫膠、粘接牢固的特點(diǎn)。

為達(dá)此目的，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案：

本實(shí)用新型的目的在于提供一種保持環(huán)，所述保持環(huán)包括剛性環(huán)和彈性環(huán)；

所述剛性環(huán)包括第一粘結(jié)面，在所述第一粘結(jié)面上徑向分布有至少2個(gè)環(huán)形凹槽；

所述彈性環(huán)包括第二粘結(jié)面，在所述第二粘結(jié)面上徑向分布有與所述環(huán)形凹槽相匹配的環(huán)形凸起；

所述第一粘結(jié)面上設(shè)置第一噴砂層，所述第二粘結(jié)面上設(shè)置第二噴砂層，所述第一噴砂層與所述第二噴砂層的粗糙度Ra均為4-8μm，所述第一粘結(jié)面與所述第二粘結(jié)面通過(guò)粘結(jié)劑緊貼固定。