[實(shí)用新型]一種應(yīng)用于電子終端產(chǎn)品的電容式MEMS壓力傳感器有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202022806319.7 | 申請(qǐng)日: | 2020-11-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN213364087U | 公開(公告)日: | 2021-06-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王志 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 路溱微電子技術(shù)(蘇州)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01L1/14 | 分類號(hào): | G01L1/14 |
| 代理公司: | 蘇州尚為知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32483 | 代理人: | 李鳳嬌 |
| 地址: | 215151 江蘇省蘇州市高新*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 應(yīng)用于 電子 終端產(chǎn)品 電容 mems 壓力傳感器 | ||
1.一種應(yīng)用于電子終端產(chǎn)品的電容式MEMS壓力傳感器,其特征在于:由若干電容單元陣列形成,所述電容單元包括由下至上依次設(shè)置的基底、在基底上重?fù)诫s形成的下極板、氧化硅層、以及采用CMOS薄膜形成的上極板;所述氧化硅層作為犧牲層,形成上極板與下極板之間的電容間隙;所述CMOS薄膜包括下多晶硅層、以及在下多晶硅層上淀積形成的上多晶硅層,所述下多晶硅層上設(shè)置有若干犧牲層釋放孔,所述上多晶硅層使電容間隙形成真空密封;所述下極板及上極板上還通過引線連接有焊盤。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種應(yīng)用于電子終端產(chǎn)品的電容式MEMS壓力傳感器,其特征在于:所述上極板端部上端及氧化硅層上端還淀積形成有保護(hù)層,所述保護(hù)層采用多晶硅、氧化硅、氮化硅或其組合制成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種應(yīng)用于電子終端產(chǎn)品的電容式MEMS壓力傳感器,其特征在于:所述下極板由P型重?fù)诫s區(qū)域構(gòu)成,其摻雜濃度為2*1018/cm3~1019/cm3。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種應(yīng)用于電子終端產(chǎn)品的電容式MEMS壓力傳感器,其特征在于:所述上多晶硅層與下多晶硅層的厚度相同。
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