[實(shí)用新型]一種真空上料裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202022794763.1 | 申請日： | 2020-11-27 |
| 公開（公告）號： | CN214086654U | 公開（公告）日： | 2021-08-31 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 董偉;張斌峰 | 申請（專利權(quán)）人： | 滁州斯英鉑聚合材料有限公司 |
| 主分類號： | B65G53/24 | 分類號： | B65G53/24;B65G53/34;B65G69/12 |
| 代理公司： | 合肥英特力知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 34189 | 代理人： | 徐文軍 |
| 地址： | 239000 安徽省滁州市蘇滁現(xiàn)代產(chǎn)業(yè)園湖州*** | 國省代碼： | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 真空 裝置 | ||
1.一種真空上料裝置，其特征在于：包括料罐(4)，所述料罐(4)的一側(cè)連接有進(jìn)料管(3)，所述料罐(4)的頂端連接有出料管(5)，所述料罐(4)的底部設(shè)置有重力閥(14)，所述料罐(4)的內(nèi)部上方設(shè)置有固定架(10)，所述固定架(10)上設(shè)置有用于粉料過濾的過濾機(jī)構(gòu)。
2.如權(quán)利要求1所述的一種真空上料裝置，其特征在于：所述過濾機(jī)構(gòu)包括限位盤(9)，所述限位盤(9)固定在固定架(10)的頂部，所述限位盤(9)的底部設(shè)置有若干個(gè)濾袋框架(12)，若干個(gè)所述濾袋框架(12)的底端均延伸至固定架(10)的下方，且若干個(gè)濾袋框架(12)的外部均套設(shè)有濾袋(11)。
3.如權(quán)利要求1所述的一種真空上料裝置，其特征在于：所述過濾機(jī)構(gòu)包括濾芯(13)，所述濾芯(13)安裝于固定架(10)的底部。
4.如權(quán)利要求1或2所述的一種真空上料裝置，其特征在于：所述料罐(4)的頂部一側(cè)連接有導(dǎo)氣管(6)，所述導(dǎo)氣管(6)的一端安裝有高壓氣罐(8)，且導(dǎo)氣管(6)位于高壓氣罐(8)的一側(cè)設(shè)置有電磁閥(7)。
5.如權(quán)利要求1所述的一種真空上料裝置，其特征在于：所述料罐(4)的底部位于重力閥(14)的外部設(shè)置有連接筒(1)，所述連接筒(1)的外壁套設(shè)有濾網(wǎng)(2)。
6.如權(quán)利要求5所述的一種真空上料裝置，其特征在于：所述連接筒(1)分為三段，三段所述連接筒(1)之間均通過卡箍(15)固定連接。
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