[實(shí)用新型]一種晶圓KOH單面蝕刻治具

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202022762945.0
• 申請(qǐng)日: 2020-11-25
• 公開（公告）號(hào): CN213691968U
• 公開（公告）日: 2021-07-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 山世清;黎弈夆
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 江蘇晶睿光電科技有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/67
• 分類號(hào): H01L21/67
• 代理公司: 北京一格知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11316
• 代理人: 滑春生

本實(shí)用新型涉及一種晶圓KOH單面蝕刻治具，包括一上蓋，所述上蓋包括一上蓋主體；一與上蓋相配合的底座，包括一底座主體；所述上蓋主體與底座主體對(duì)接后，上蓋主體與底座主體之間共同形成一蝕刻空腔，在上蓋主體與底座主體對(duì)接處還連接有一壓力平衡組件，所述壓力平衡組件包括一對(duì)平衡管，平衡管的一側(cè)與蝕刻空腔相連通，另一側(cè)連接有一固定座，在固定座上還具有容平衡管安裝的通孔。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于：通過增設(shè)一壓力平衡組件，利用兩根平衡管的配合，將蝕刻空腔中產(chǎn)生的氣體及時(shí)排至外界空氣中，保證蝕刻治具內(nèi)外的壓力平衡，相對(duì)應(yīng)的也就解決了因這部分氣體的存在而導(dǎo)致的晶圓表面的平整度等質(zhì)量問題以及安全隱患。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及晶圓蝕刻領(lǐng)域，特別涉及一種晶圓KOH單面蝕刻治具。

背景技術(shù)

通常進(jìn)行蝕刻加工是為了消除在晶圓的機(jī)械加工的過程中產(chǎn)生的損傷。

最近，半導(dǎo)體工業(yè)中已出現(xiàn)了增加晶圓的直徑以及增加集成密度和半導(dǎo)體裝置的圖案精細(xì)度的趨勢。批量式蝕刻設(shè)備不僅增加尺寸以便蝕刻大直徑晶圓，并且還增加對(duì)蝕刻溶劑的消耗。因此，每次對(duì)一個(gè)晶圓進(jìn)行加工的單片晶圓蝕刻設(shè)備已被廣泛地使用，以便有效地蝕刻大直徑晶圓。

而目前，對(duì)于典型的單片晶圓蝕刻設(shè)備而言，由于蝕刻溶劑覆蓋整個(gè)晶圓，所以所述蝕刻在晶圓的整個(gè)表面上進(jìn)行。因此，來自蝕刻反應(yīng)的副產(chǎn)品的大量氣體不僅可被吸附在晶圓的表面上，并且所述氣體還可妨礙晶圓的表面與新供給的蝕刻溶劑發(fā)生反應(yīng)，進(jìn)而可劣化晶圓的平整度，而且，由于這部分氣體的存在，會(huì)導(dǎo)致蝕刻設(shè)備內(nèi)部的壓力增加，即會(huì)導(dǎo)致蝕刻設(shè)備的內(nèi)外壓力出現(xiàn)不平衡的現(xiàn)象，還會(huì)存在著一定的安全隱患。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是提供一種能夠保證蝕刻治具內(nèi)外壓力平衡的晶圓KOH單面蝕刻治具。

為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型的技術(shù)方案為：一種晶圓KOH單面蝕刻治具，其創(chuàng)新點(diǎn)在于：包括

一上蓋，所述上蓋包括一上蓋主體，該上蓋主體的外輪廓邊依次為第一平邊、第二弧形邊、第三平邊、第四弧形邊，且第一平邊與第三平邊之間對(duì)稱分布，第二弧形邊與第四弧形邊對(duì)稱分布，在上蓋主體的外輪廓邊沿還分布有數(shù)個(gè)第一連接孔；

一與上蓋相配合的底座，所述底座包括一底座主體，該底座主體的外輪廓邊與上蓋主體的外輪廓邊形狀相同，在底座主體的外輪廓邊沿上還分布有數(shù)個(gè)第二連接孔；

所述上蓋主體與底座主體對(duì)接后通過數(shù)個(gè)連接螺栓一一穿過第一連接孔、第二連接孔后，實(shí)現(xiàn)上蓋主體與底座主體之間的固定，且在上蓋主體與底座主體對(duì)接后，上蓋主體與底座主體之間共同形成一蝕刻空腔，在上蓋主體與底座主體對(duì)接處還連接有一壓力平衡組件，所述壓力平衡組件包括一對(duì)平衡管，平衡管的一側(cè)與蝕刻空腔相連通，另一側(cè)連接有一固定座，在固定座上還具有容平衡管安裝的通孔。

進(jìn)一步的，所述上蓋主體的靠近底座主體的一側(cè)呈多臺(tái)階面結(jié)構(gòu)，且多臺(tái)階面結(jié)構(gòu)分布于上蓋主體的第二弧形邊與第四弧形邊處，所述多臺(tái)階面結(jié)構(gòu)為由上蓋主體的外側(cè)至上蓋主體的中心方向依次分布的第一臺(tái)階面、第二臺(tái)階面、第三臺(tái)階面、第四臺(tái)階面、第五臺(tái)階面、第六臺(tái)階面、第七臺(tái)階面，其中，第一臺(tái)階面與第三臺(tái)階面相齊平，第二臺(tái)階面與第四臺(tái)階面相齊平，第五臺(tái)階面與第七臺(tái)階面相齊平，第二臺(tái)階面、第一臺(tái)階面、第五臺(tái)階面、第六臺(tái)階面的厚度依次減小，在底座主體靠近上蓋主體的一側(cè)的中部位置還具有一向上蓋主體方向凸出的第八臺(tái)階面，且第八臺(tái)階面的兩側(cè)與第四臺(tái)階面的側(cè)端面相貼合，在第八臺(tái)階面的兩側(cè)還分別具有一向上蓋主體方向凸出的第九臺(tái)階面，且第九臺(tái)階面與第五臺(tái)階面的端面相貼合。

進(jìn)一步的，所述底座主體遠(yuǎn)離上蓋主體的一側(cè)的中部位置還開有一減重孔。

本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于：本實(shí)用新型中的蝕刻治具，在上蓋與底座對(duì)接后，通過增設(shè)一壓力平衡組件，利用兩根平衡管的配合，將蝕刻空腔中產(chǎn)生的氣體及時(shí)排至外界空氣中，保證蝕刻治具內(nèi)外的壓力平衡，相對(duì)應(yīng)的也就解決了因這部分氣體的存在而導(dǎo)致的晶圓表面的平整度等質(zhì)量問題以及安全隱患。