[實(shí)用新型]一種自吸過(guò)濾式防護(hù)口罩綜合性能測(cè)試實(shí)驗(yàn)裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202022725490.5
• 申請(qǐng)日: 2020-11-23
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN214097072U
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-08-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 朱金佗;呂成明;唐梧桐;何新建;王亮;張如雪;盧巖森;楊惠涵;鄧榕
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 中國(guó)礦業(yè)大學(xué)
• 主分類(lèi)號(hào): G01N15/08
• 分類(lèi)號(hào): G01N15/08;G01N7/10;G01N5/02
• 代理公司: 南京經(jīng)緯專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 32200
• 代理人: 李翩

1.一種自吸過(guò)濾式防護(hù)口罩綜合性能測(cè)試實(shí)驗(yàn)裝置，其特征在于，包括測(cè)試室(1)、人頭模型(2)、呼吸流量控制裝置以及測(cè)量裝置；所述測(cè)試室(1)用于構(gòu)造粉塵環(huán)境；所述人頭模型(2)放置于測(cè)試室(1)內(nèi)，其口腔部佩戴有口罩(5)；所述呼吸流量控制裝置用于模擬不同測(cè)試流量模式，通過(guò)上呼吸道模擬銅管(16)與人頭模型(2)連接；所述呼吸流量控制裝置包括仿人呼吸儀(3)和抽氣泵(4)；所述測(cè)量裝置包括載塵量計(jì)重裝置、粒子計(jì)數(shù)器(6)以及微壓計(jì)(7)，所述載塵量計(jì)重裝置設(shè)置于人頭模型(2)下方，用于測(cè)量口罩(5)載塵量；所述粒子計(jì)數(shù)器(6)用于檢測(cè)口罩(5)內(nèi)外顆粒物計(jì)數(shù)濃度；所述微壓計(jì)(7)用于檢測(cè)口罩(5)內(nèi)外氣壓差。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種自吸過(guò)濾式防護(hù)口罩綜合性能測(cè)試實(shí)驗(yàn)裝置，其特征在于，所述測(cè)試室(1)內(nèi)設(shè)置有用于模擬粉塵環(huán)境的產(chǎn)塵裝置，所述產(chǎn)塵裝置包括粒子發(fā)生裝置、濕度控制裝置(10)以及設(shè)置于測(cè)試室(1)內(nèi)四角處、用于吹動(dòng)顆粒物使其保持懸浮的風(fēng)扇(11)；所述粒子發(fā)生裝置用于產(chǎn)生中性NaCl測(cè)試介質(zhì)，所述濕度控制裝置(10)用于監(jiān)測(cè)并調(diào)控測(cè)試室(1)內(nèi)濕度。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種自吸過(guò)濾式防護(hù)口罩綜合性能測(cè)試實(shí)驗(yàn)裝置，其特征在于，所述粒子發(fā)生裝置包括粒子發(fā)生器(8)和電荷中和器(9)，所述粒子發(fā)生器(8)上設(shè)置有用于調(diào)節(jié)粒子濃度生成量的調(diào)節(jié)閥。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種自吸過(guò)濾式防護(hù)口罩綜合性能測(cè)試實(shí)驗(yàn)裝置，其特征在于，所述呼吸流量控制裝置可模擬的測(cè)試流量模式包括循環(huán)流量模式和連續(xù)流量模式兩種；所述循環(huán)流量模式由仿人呼吸儀(3)模擬呼吸流量曲線(xiàn)為正弦波的空氣流量；所述連續(xù)流量模式由抽氣泵(4)模擬連續(xù)恒定的抽氣流量；所述仿人呼吸儀(3)與抽氣泵(4)分別通過(guò)導(dǎo)管與上呼吸道模擬銅管(16)連接，通過(guò)調(diào)節(jié)設(shè)置于上呼吸道模擬銅管(16)上的三通閥(17)切換兩種流量模式。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種自吸過(guò)濾式防護(hù)口罩綜合性能測(cè)試實(shí)驗(yàn)裝置，其特征在于，所述抽氣泵(4)與上呼吸道模擬銅管(16)之間的導(dǎo)管上設(shè)置有用于監(jiān)測(cè)抽氣流量的流量計(jì)(15)。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種自吸過(guò)濾式防護(hù)口罩綜合性能測(cè)試實(shí)驗(yàn)裝置，其特征在于，所述抽氣泵(4)與上呼吸道模擬銅管(16)之間的導(dǎo)管上設(shè)置有人工肺(14)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種自吸過(guò)濾式防護(hù)口罩綜合性能測(cè)試實(shí)驗(yàn)裝置，其特征在于，所述載塵量計(jì)重裝置包括設(shè)置于人頭模型(2)下的高精度電子天平(12)以及罩設(shè)于人頭模型(2)和電子天平(12)外的遮塵罩(13)；所述遮塵罩(13)上開(kāi)設(shè)有用于暴露口罩(5)的通孔。