[實用新型]一種基于微波紫外等離子體的脫硫脫硝裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202022703617.3
• 申請日: 2020-11-20
• 公開（公告）號: CN214182520U
• 公開（公告）日: 2021-09-14
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 馬中發(fā);楊小洲;張濤
• 申請（專利權(quán)）人: 陜西青朗萬城環(huán)?？萍加邢薰?/a>
• 主分類號: B01D53/76
• 分類號: B01D53/76;B01D53/32;B01D53/60;B01D53/86
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本實用新型提供了一種基于微波紫外等離子體的脫硫脫硝裝置，屬于脫硫脫硝技術(shù)領(lǐng)域，包括：進氣口、風(fēng)機、第一床層區(qū)、反應(yīng)區(qū)、第二床層區(qū)以及出氣口；其中，所述風(fēng)機的兩端分別設(shè)置所述進氣口和所述第一床層區(qū)的一端，所述反應(yīng)區(qū)的兩端分別設(shè)置所述第一床層區(qū)的另一端和所述第二床層區(qū)的一端，所述反應(yīng)區(qū)的另一端設(shè)置所述出氣口。也就是說，使用本實用新型提供的脫硫脫硝裝置能夠?qū)崿F(xiàn)在微波的作用下產(chǎn)生還原劑，再在利用微波、紫外、等離子體的共同催化作用對煙氣進行脫硫脫硝的目的，實現(xiàn)了對煙氣的高效率脫硫脫硝處理，并且安全可靠，能耗低，經(jīng)濟效益好，結(jié)構(gòu)簡單且易操作，工藝簡單易實現(xiàn)。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型屬于脫硫脫硝技術(shù)領(lǐng)域，涉及但不限于一種基于微波紫外等離子體的脫硫脫硝裝置。

背景技術(shù)

隨著社會經(jīng)濟的不斷快速發(fā)展，我國的環(huán)境污染問題日益嚴重，尤其是各種工業(yè)企業(yè)在燃料使用過程中產(chǎn)生的廢氣，這些廢氣中通常含有大量硫化物和氮氧化物。由于硫化物和氮氧化物對人體健康和生態(tài)壞境的危害極大，因此，如何高效對廢氣進行脫硫脫硝一直是人們亟需解決的關(guān)鍵問題。

現(xiàn)有廢氣的脫硫脫硝裝置中，包括與鍋爐排煙氣段連接的進氣管，進氣管連接除塵結(jié)構(gòu)，除塵結(jié)構(gòu)排氣端連接排氣管，除塵結(jié)構(gòu)與排氣管之間依次連接微波紫外氧化單元及酸性廢氣吸收塔。

然而，現(xiàn)有廢氣的脫硫脫硝裝置由于需要通過微波紫外氧化和酸性廢氣吸收才能實現(xiàn)高級氧化、達到脫硫脫硝的目的，從而導(dǎo)致廢氣的脫硫脫硝效率并不高。

實用新型內(nèi)容

本實用新型的目的在于，針對上述現(xiàn)有廢氣的脫硫脫硝裝置在處理廢氣時存在的不足，提供一種基于微波紫外等離子體的脫硫脫硝裝置，以解決現(xiàn)有廢氣的脫硫脫硝裝置由于需要通過微波紫外氧化和酸性廢氣吸收才能實現(xiàn)高級氧化以及脫硫脫硝時導(dǎo)致的廢氣的脫硫脫硝效率并不高的問題。

為實現(xiàn)上述目的，本實用新型實施例采用的技術(shù)方案如下：

本實用新型實施例提供了一種基于微波紫外等離子體的脫硫脫硝裝置，包括：進氣口、風(fēng)機、第一床層區(qū)、反應(yīng)區(qū)、第二床層區(qū)以及出氣口；

其中，所述風(fēng)機的兩端分別設(shè)置所述進氣口和所述第一床層區(qū)的一端，所述反應(yīng)區(qū)的兩端分別設(shè)置所述第一床層區(qū)的另一端和所述第二床層區(qū)的一端，所述反應(yīng)區(qū)的另一端設(shè)置所述出氣口。

可選的，所述第一床層區(qū)為第一流化床，所述第一流化床豎立設(shè)置，所述第二床層區(qū)為第二流化床，所述第二流化床豎立設(shè)置。

可選的，所述第一流化床的上端設(shè)置有第一進料斗、下端設(shè)置有第一微波源，所述第二流化床的上端設(shè)置有第二進料斗、下端設(shè)置有第二微波源。

可選的，所述第一進料斗用于向所述第一流化床內(nèi)加入尿素碳粉復(fù)合物，所述第二進料斗用于向所述第二流化床內(nèi)加入尿素碳粉復(fù)合物；其中，所述尿素碳粉復(fù)合物的顆粒粒徑為0.01-10mm。

可選的，所述反應(yīng)區(qū)包括無極紫外燈管、等離子管、第三微波源和支架；

其中，所述無極紫外燈管、所述等離子管和所述支架設(shè)置在所述反應(yīng)區(qū)的內(nèi)部，所述第三微波源設(shè)置在所述反應(yīng)區(qū)的外部。

可選的，所述無極紫外燈管、所述等離子管和所述支架的數(shù)量為多個，且所述支架用于支撐所述無極紫外燈管和所述等離子管；所述第三微波源的數(shù)量為多個且陣列設(shè)置在所述反應(yīng)區(qū)的外部。

可選的，所述裝置還包括控制器和傳感器，所述傳感器設(shè)置在所述出氣口處，所述控制器分別與所述風(fēng)機、所述第一床層區(qū)、所述反應(yīng)區(qū)以及所述第二床層區(qū)連接。

可選的，所述第一床層區(qū)、所述反應(yīng)區(qū)以及所述第二床層區(qū)的數(shù)量為多個，且每相鄰第一床層區(qū)和第二床層區(qū)之間設(shè)置有反應(yīng)區(qū)。

可選的，所述裝置還包括第一金屬網(wǎng)，所述第一金屬網(wǎng)設(shè)置在所述進氣口與所述第一床層區(qū)的連接處。