[實(shí)用新型]一種氯氣射流吸收裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202022693478.0 | 申請(qǐng)日: | 2020-11-19 |
| 公開(公告)號(hào): | CN214552362U | 公開(公告)日: | 2021-11-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 孫鐵浩;向可陽;石遠(yuǎn)林;易青青 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳晶恒宇環(huán)境科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | B01D53/18 | 分類號(hào): | B01D53/18;B01D53/14 |
| 代理公司: | 深圳市港灣知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44258 | 代理人: | 劉向英 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 氯氣 射流 吸收 裝置 | ||
1.一種氯氣射流吸收裝置,其特征在于,包括:射流缸、射流閥結(jié)構(gòu)、氣液分離缸;所述射流閥結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述射流缸上,外部的氯氣與蝕刻液在所述射流閥結(jié)構(gòu)中混合后進(jìn)入所述射流缸中;所述氣液分離缸包括一級(jí)噴淋腔以及二級(jí)噴淋腔;所述氣液分離缸與所述射流缸連接,以使所述射流缸中的氯氣依次通過所述一級(jí)噴淋腔以及所述二級(jí)噴淋腔中進(jìn)行二次吸收。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氯氣射流吸收裝置,其特征在于,所述氣液分離缸還包括用于存儲(chǔ)蝕刻液的底腔、用于進(jìn)行氣液分離的第一過濾結(jié)構(gòu)以及第二過濾機(jī)構(gòu);所述一級(jí)噴淋腔設(shè)置于所述底腔與所述二級(jí)噴淋腔之間;所述第一過濾結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述底腔與所述一級(jí)噴淋腔之間;所述第二過濾結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述二級(jí)噴淋腔與所述一級(jí)噴淋腔之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氯氣射流吸收裝置,其特征在于,所述第一過濾結(jié)構(gòu)以及所述第二過濾結(jié)構(gòu)均包括用于過濾氯氣中水分的填充物以及用于緩和或阻擋蝕刻液噴淋沖擊的鏤空板。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氯氣射流吸收裝置,其特征在于,所述裝置還包括噴淋傳輸結(jié)構(gòu);所述噴淋傳輸結(jié)構(gòu)的一端通過所述氣液分離缸底部開設(shè)的連接孔位與所述底腔連接,所述噴淋傳輸結(jié)構(gòu)的另一端通過所述氣液分離缸頂部開設(shè)的連接孔位與所述二級(jí)噴淋腔連接,以使所述底腔中的蝕刻液通過所述噴淋傳輸結(jié)構(gòu)輸送至所述二級(jí)噴淋腔以及所述一級(jí)噴淋腔。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的氯氣射流吸收裝置,其特征在于,所述噴淋傳輸結(jié)構(gòu)包括噴淋泵、第一傳輸管以及第二傳輸管;所述第一傳輸管一端通過所述氣液分離缸底部開設(shè)的連接孔位與所述底腔連接,所述第一傳輸管的另一端與所述噴淋泵連接;所述第二傳輸管的一端與所述噴淋泵連接,所述第二傳輸管的另一端通過所述氣液分離缸頂部開設(shè)的連接孔位與所述二級(jí)噴淋腔連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氯氣射流吸收裝置,其特征在于,所述裝置還包括用于觀察液位情況的液位觀察管;所述液位觀察管設(shè)置在所述射流缸上。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氯氣射流吸收裝置,其特征在于,所述氣液分離缸還包括用于查看噴淋情況的第一觀察窗以及第二觀察窗;所述第一觀察窗以及所述第二觀察窗分別對(duì)應(yīng)設(shè)置在所述一級(jí)噴淋腔以及所述二級(jí)噴淋腔上。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氯氣射流吸收裝置,其特征在于,所述裝置還包括溢流結(jié)構(gòu);所述溢流結(jié)構(gòu)通過所述氣液分離缸開設(shè)溢流口與所述氣液分離缸連接,以使所述氣液分離缸中蝕刻液通過所述溢流結(jié)構(gòu)傳輸至蝕刻機(jī)中循環(huán)使用。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氯氣射流吸收裝置,其特征在于,所述裝置還包括排氣結(jié)構(gòu);所述排氣結(jié)構(gòu)通過所述氣液分離缸頂部開設(shè)的排氣孔與所述氣液分離缸連接,以使所述氣液分離缸中分離出的氯氣通過所述排氣結(jié)構(gòu)傳輸至尾氣處理系統(tǒng)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氯氣射流吸收裝置,其特征在于,所述裝置呈L型;所述氣液分離缸的缸體高于所述射流缸的缸體。
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