[實用新型]一種升降式大視場紋影儀

有效

• 申請號: 202022687614.5
• 申請日: 2020-11-19
• 公開（公告）號: CN213336715U
• 公開（公告）日: 2021-06-01
• 發明（設計）人: 朱海東;陳曦;吳敏;楊凱迪;劉鵬;張明元
• 申請（專利權）人: 桂林電子科技大學
• 主分類號: G01M10/00
• 分類號: G01M10/00
• 代理公司: 桂林市華杰專利商標事務所有限責任公司 45112
• 代理人: 童世鋒

1.一種升降式大視場紋影儀，其特征在于，包括底座、升降機構、支撐框架、相機、刀口和拋物面反射鏡，升降機構分別設置在底座的兩端，支撐框架的兩端水平固定架設在升降機構上，支撐框架的一端設置光學固定板，相機和刀口分別通過第一XY升降臺、第二XY升降臺設在光學固定板上，設置了刀口的第二XY升降臺的一側設有點光源，拋物面反射鏡通過鏡面固定架固定在鏡框內，鏡框豎直固定在支撐框架的另一端；其中刀口位于相機和拋物面反射鏡之間，且相機、刀口和拋物面反射鏡在同一條直線上；刀口和拋物面反射鏡之間靠近拋物面反射鏡一端的底座上設有燭臺。

2.根據權利要求1所述的一種升降式大視場紋影儀，其特征在于，所述的支撐框架的四周設有角度傳感器，角度傳感器與控制器連接。

3.根據權利要求1所述的一種升降式大視場紋影儀，其特征在于，所述的升降機構，包括步進電機、第一絲桿升降機和第二絲桿升降機，步進電機與控制器連接，步進電機的輸出軸與第一絲桿升降機的傳動軸的一端連接，第一絲桿升降機的傳動軸的另一端通過聯軸器與第二絲桿升降機的傳動軸連接；第一絲桿升降機和第二絲桿升降機的升降絲桿的上端與支撐框架連接，下端可穿過底座進行升降。

4.根據權利要求1所述的一種升降式大視場紋影儀，其特征在于，所述的升降機構，升降的最大高度為450mm。

5.根據權利要求1所述的一種升降式大視場紋影儀，其特征在于，所述的拋物面反射鏡的焦距為750mm。

6.根據權利要求1所述的一種升降式大視場紋影儀，其特征在于，所述的刀口，位于拋物面反射鏡正前方1450-1550mm處。