[實(shí)用新型]漆面缺陷檢測(cè)裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202022686999.3 | 申請(qǐng)日: | 2020-11-19 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN214252052U | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-09-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 何佳杰;錢(qián)鋒 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 易思維(杭州)科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N21/88 | 分類號(hào): | G01N21/88;G01N21/01 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 310051 浙江省杭州*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 缺陷 檢測(cè) 裝置 | ||
1.一種漆面缺陷檢測(cè)裝置,其特征在于:包括外殼(4)、設(shè)置于所述外殼內(nèi)的工控裝置(3)、以及同時(shí)設(shè)置于所述外殼(4)同一側(cè)面的顯示屏(2)和多套圖像采集裝置(1);
所述顯示屏(2)用于將預(yù)設(shè)圖像投影至待測(cè)漆面;
所述多套圖像采集裝置(1)的視場(chǎng)范圍共同覆蓋待測(cè)漆面,以獲取待測(cè)漆面圖像;
所述顯示屏(2)、所述多套圖像采集裝置(1)分別與所述工控裝置(3)連接,被所述工控裝置(3)控制以分別實(shí)現(xiàn)預(yù)設(shè)圖像投影、圖像采集的功能。
2.如權(quán)利要求1所述漆面缺陷檢測(cè)裝置,其特征在于:所述外殼(4)在所述多套圖像采集裝置(1)的鏡頭處設(shè)有安裝結(jié)構(gòu),所述安裝結(jié)構(gòu)向所述顯示屏(2)所在側(cè)傾斜。
3.如權(quán)利要求1所述漆面缺陷檢測(cè)裝置,其特征在于:所述工控裝置(3)包括中央處理器(301)、圖形處理器(302)、相機(jī)驅(qū)動(dòng)板(303)、硬盤(pán)(304)和電源(305);所述圖形處理器(302)、所述相機(jī)驅(qū)動(dòng)板(303)和所述硬盤(pán)(304)與所述中央處理器(301)連接,所述電源(305)為漆面缺陷檢測(cè)裝置供電;
所述多套圖像采集裝置(1)分別與所述相機(jī)驅(qū)動(dòng)板(303)相連,所述顯示屏(2)與所述中央處理器(301)相連。
4.如權(quán)利要求3所述漆面缺陷檢測(cè)裝置,其特征在于:所述外殼(4)內(nèi)部設(shè)有風(fēng)扇(6),所述風(fēng)扇(6)與所述中央處理器(301)連接,為所述圖形處理器(302)和相機(jī)驅(qū)動(dòng)板(303)進(jìn)行散熱。
5.如權(quán)利要求1所述漆面缺陷檢測(cè)裝置,其特征在于:所述多套圖像采集裝置(1)位于同一行、同一列,或者沿所述顯示屏(2)的中軸線對(duì)稱設(shè)置。
6.如權(quán)利要求3或4任意一項(xiàng)所述的漆面缺陷檢測(cè)裝置,其特征在于:所述外殼(4)后端面設(shè)有調(diào)試端口(8),所述調(diào)試端口(8)與所述中央處理器(301)連接。
7.如權(quán)利要求1~5任意一項(xiàng)所述的漆面缺陷檢測(cè)裝置,其特征在于:所述外殼(4)上設(shè)置有把手(5)。
8.如權(quán)利要求1~5任意一項(xiàng)所述的漆面缺陷檢測(cè)裝置,其特征在于:所述外殼(4)上設(shè)置有安裝法蘭(7)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于易思維(杭州)科技有限公司,未經(jīng)易思維(杭州)科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202022686999.3/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)方法和檢測(cè)組件
- 檢測(cè)方法、檢測(cè)裝置和檢測(cè)系統(tǒng)
- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)方法以及記錄介質(zhì)
- 檢測(cè)設(shè)備、檢測(cè)系統(tǒng)和檢測(cè)方法
- 檢測(cè)芯片、檢測(cè)設(shè)備、檢測(cè)系統(tǒng)和檢測(cè)方法
- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)設(shè)備及檢測(cè)方法
- 檢測(cè)芯片、檢測(cè)設(shè)備、檢測(cè)系統(tǒng)
- 檢測(cè)組件、檢測(cè)裝置以及檢測(cè)系統(tǒng)
- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)方法及檢測(cè)程序
- 檢測(cè)電路、檢測(cè)裝置及檢測(cè)系統(tǒng)





