[實用新型]一種可實現磁場熱處理的常壓高速氣霧淬火裝置有效
| 申請號： | 202022678300.9 | 申請日： | 2020-11-18 |
| 公開（公告）號： | CN213924909U | 公開（公告）日： | 2021-08-10 |
| 發明（設計）人： | 魏留闖;魏屏;楊勇;楊亞彪 | 申請（專利權）人： | 昆明學院 |
| 主分類號： | C21D1/04 | 分類號： | C21D1/04;C21D1/667;C21D1/62;C21D1/74;C21D11/00 |
| 代理公司： | 成都方圓聿聯專利代理事務所(普通合伙) 51241 | 代理人： | 李鵬 |
| 地址： | 650214 云南省*** | 國省代碼： | 云南;53 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 實現 磁場 熱處理 常壓 高速 淬火 裝置 | ||
1.一種可實現磁場熱處理的常壓高速氣霧淬火裝置，其特征在于，包括高強度耐高溫玻璃箱，所述高強度耐高溫玻璃箱內設有中網，所述耐高溫玻璃箱兩側在中網的上、下側設有多個水氣混合噴嘴；所述耐高溫玻璃箱外配置有強磁場發生裝置。
2.根據權利要求1所述的一種可實現磁場熱處理的常壓高速氣霧淬火裝置，其特征在于，所述耐高溫玻璃箱下端設有多個支撐腳；所述多個支撐腳為四個。
3.根據權利要求1所述的一種可實現磁場熱處理的常壓高速氣霧淬火裝置，其特征在于，所述中網采用不易被磁化的銅或鋁合金材料。
4.根據權利要求1所述的一種可實現磁場熱處理的常壓高速氣霧淬火裝置，其特征在于，所述多個水氣混合噴嘴為四個。
5.根據權利要求4所述的一種可實現磁場熱處理的常壓高速氣霧淬火裝置，其特征在于，所述四個水氣混合噴嘴中的兩個水氣混合噴嘴設置在中網上方，所述另外兩個水氣混合噴嘴設置在中網下方。
6.根據權利要求5所述的一種可實現磁場熱處理的常壓高速氣霧淬火裝置，其特征在于，位于所述中網上方的兩個水氣混合噴嘴對稱設置在耐高溫玻璃箱側壁上。
7.根據權利要求6所述的一種可實現磁場熱處理的常壓高速氣霧淬火裝置，其特征在于，位于所述中網下方的兩個水氣混合噴嘴對稱設置在耐高溫玻璃箱側壁上。
8.根據權利要求7所述的一種可實現磁場熱處理的常壓高速氣霧淬火裝置，其特征在于，位于所述中網上方的兩個水氣混合噴嘴與位于所述中網下方的兩個水氣混合噴嘴對稱設置。
9.根據權利要求1所述的一種可實現磁場熱處理的常壓高速氣霧淬火裝置，其特征在于，所述多個水氣混合噴嘴均對應連接有高壓氣體管路和水管路。
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