[實(shí)用新型]一種金屬制品真空離子表面處理裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202022635701.6 | 申請(qǐng)日: | 2020-11-16 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN213977859U | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-08-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李建平 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳市金躍鈦金科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/24 | 分類號(hào): | C23C14/24;C23C14/50 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 518000 廣東省深*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 金屬制品 真空 離子 表面 處理 裝置 | ||
1.一種金屬制品真空離子表面處理裝置,其特征在于:包括蒸鍍機(jī)主體(1)和真空泵(3),所述蒸鍍機(jī)主體(1)上表面固定安裝有真空罩(2),所述真空罩(2)上端活動(dòng)安裝有蓋板(201),所述蒸鍍機(jī)主體(1)上表面位于真空罩(2)一側(cè)固定安裝有蓋板支架(101),所述真空泵(3)上端固定安裝有排氣軟管(301)連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金屬制品真空離子表面處理裝置,其特征在于:所述蓋板(201)上表面嵌入固定安裝有真空閥(202),所述蒸鍍機(jī)主體(1)與所述真空罩(2)連接處和所述真空罩(2)與所述蓋板(201)連接處均由密封條(102)密封。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種金屬制品真空離子表面處理裝置,其特征在于:所述蒸鍍機(jī)主體(1)上表面位于真空罩(2)內(nèi)部嵌入固定安裝有排氣管(103),所述蒸鍍機(jī)主體(1)上表面位于真空罩(2)內(nèi)部和蓋板(201)下表面均固定安裝有伸縮外桿(4),所述伸縮外桿(4)內(nèi)部均活動(dòng)嵌入安裝有伸縮內(nèi)桿(401)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種金屬制品真空離子表面處理裝置,其特征在于:所述蓋板(201)下表面的伸縮內(nèi)桿(401)內(nèi)部嵌入固定安裝有陰極導(dǎo)電支架(5),所述蒸鍍機(jī)主體(1)上表面的伸縮內(nèi)桿(401)內(nèi)部嵌入固定安裝有陽(yáng)極導(dǎo)電支架(6)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種金屬制品真空離子表面處理裝置,其特征在于:所述陰極導(dǎo)電支架(5)內(nèi)側(cè)固定安裝有放置底座(501),所述陽(yáng)極導(dǎo)電支架(6)上端開(kāi)設(shè)有凹槽(602),所述陽(yáng)極導(dǎo)電支架(6)上端活動(dòng)安裝有坩堝(601),所述坩堝(601)與所述凹槽(602)活動(dòng)連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種金屬制品真空離子表面處理裝置,其特征在于:所述陰極導(dǎo)電支架(5)一側(cè)接近下端處嵌入固定安裝有螺母(504),所述螺母(504)內(nèi)部活動(dòng)嵌入安裝有推動(dòng)螺栓(502),所述推動(dòng)螺栓(502)貫穿陰極導(dǎo)電支架(5)一端固定安裝有夾板(503)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種金屬制品真空離子表面處理裝置,其特征在于:所述伸縮內(nèi)桿(401)表面開(kāi)設(shè)有限位孔(402),所述伸縮外桿(4)表面接近下端處活動(dòng)嵌入安裝有緊固螺栓(403),所述緊固螺栓(403)貫穿伸縮外桿(4)表面與所述限位孔(402)活動(dòng)連接。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于深圳市金躍鈦金科技有限公司,未經(jīng)深圳市金躍鈦金科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202022635701.6/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





