[實用新型]一種大投射范圍的復合微透鏡陣列及投影系統

有效

• 申請號: 202022563117.4
• 申請日: 2020-11-09
• 公開（公告）號: CN213210527U
• 公開（公告）日: 2021-05-14
• 發明（設計）人: 張海升
• 申請（專利權）人: 蘇州晶方光電科技有限公司
• 主分類號: G02B3/00
• 分類號: G02B3/00;G03B21/20
• 代理公司: 蘇州謹和知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 32295
• 代理人: 田媛

1.一種大投射范圍的復合微透鏡陣列，包括多個以陣列方式緊密排布的光通道單元，各所述的光通道單元均包含沿光軸方向依次設置的聚光透鏡、圖案生成層、透明基底以及投射透鏡，其特征在于：所述的透明基底為平鏡，所述的聚光透鏡與投射透鏡為平凸透鏡，所述的聚光透鏡與投射透鏡為非球面透鏡或自由曲面透鏡，所述的透明基底的厚度為T₂，所述的聚光透鏡的曲率半徑為C₁，所述的投射透鏡的曲率半徑為C₂，且滿足0.1≤C₁/T₂≤0.3，-15≤C₂/T₂≤5。

2.根據權利要求1所述的一種大投射范圍的復合微透鏡陣列，其特征在于：所述的透明基底的厚度T₂為2mm～4.5mm。

3.根據權利要求1所述的一種大投射范圍的復合微透鏡陣列，其特征在于：所述的透明基底的阿貝系數大于等于60。

4.根據權利要求1所述的一種大投射范圍的復合微透鏡陣列，其特征在于：所述的聚光透鏡和投射透鏡的阿貝系數大于等于50。

5.根據權利要求1所述的一種大投射范圍的復合微透鏡陣列，其特征在于：所述的聚光透鏡的中心厚度為T₁，且滿足0.05≤T₁/T₂≤0.5。

6.根據權利要求1所述的大投射范圍的復合微透鏡陣列，其特征在于：所述的投射透鏡的中心厚度為T₃，且滿足0.01≤T₃ /T₂≤0.4。

7.根據權利要求1所述的一種大投射范圍的復合微透鏡陣列，其特征在于：所述的聚光透鏡、圖案生成層、透明基底以及投射透鏡之間通過膠合或熱壓合一體形成。

8.根據權利要求1所述的一種大投射范圍的復合微透鏡陣列，其特征在于：所述的多個光通道單元以六邊形陣列的形式排布。

9.一種投影系統，其特征在于：它包括沿光軸方向布置的光源、準直透鏡、如權利要求1-8中任意一項所述的復合微透鏡陣列，所述的投影系統的光錐角θ大于等于40度。