[實用新型]一種控制閥閥桿填料函內腔均壓裝置

有效

• 申請號: 202022350030.9
• 申請日: 2020-10-21
• 公開（公告）號: CN213541497U
• 公開（公告）日: 2021-06-25
• 發明（設計）人: 劉海波;常占東;賈華;曹小杰;梁有偉
• 申請（專利權）人: 吳忠儀表有限責任公司
• 主分類號: F16K41/02
• 分類號: F16K41/02;F16K27/08;G01L11/00
• 代理公司: 常州市英諾創信專利代理事務所(普通合伙) 32258
• 代理人: 蔣華

本實用新型涉及一種控制閥閥桿填料函內腔均壓裝置，包括閥體和閥桿，所述閥桿上套設有密封填料，所述密封填料與所述閥體內壁密封連接，所述閥體兩端均設置有閥蓋，所述閥蓋適于與所述密封填料相抵，所述密封填料之間設置有均壓部件，所述均壓部件套設在所述閥桿上，所述均壓部件的內徑大于所述閥桿的直徑，所述均壓部件的外徑等于所述閥體的內徑，所述均壓部件上開設有用于流體暢通的槽道，所述閥體上設置有壓力接口，所述壓力接口與所述閥體貫通連接。本實用新型通過均壓部件提供環向的暢通槽道，實現流體暢通；任何沿著環向出現泄漏點，整個溝槽內都會充滿流體，形成環向的均壓，有利于壓力測量的實施的一致性。

技術領域

本實用新型涉及控制閥技術領域，具體是一種控制閥閥桿填料函內腔均壓裝置。

背景技術

高端控制閥通常是在高溫、高壓、高壓差、腐蝕、高沖蝕工況中大量使用，是流程工業中的關鍵和核心部件，通常為了保證閥門的可靠運行，需要填充密封填料，滿足其密封要求。

由于閥體內函道和閥桿的表面光潔度以及填料自身的均勻性，有可能造成沿著填料與函道和閥桿環向的壓力均勻性差，容易造成測量孔堵塞，從而影響測量的準確性。

實用新型內容

本實用新型要解決的技術問題是：為了解決上述問題，本實用新型提供一種控制閥閥桿填料函內腔均壓裝置，使得均壓部件的周圈流體短路，起到匯流和均壓作用，不易堵塞。

為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案：本實用新型提供的一種控制閥閥桿填料函內腔均壓裝置，包括閥體和閥桿，所述閥桿上套設有密封填料，所述密封填料與所述閥體內壁密封連接，所述閥體兩端均設置有閥蓋，所述閥蓋適于與所述密封填料相抵，所述密封填料之間設置有均壓部件，所述均壓部件套設在所述閥桿上，所述均壓部件的內徑大于所述閥桿的直徑，所述均壓部件的外徑等于所述閥體的內徑，使得所述均壓部件在所述閥體內沿著軸向運動不受束縛，所述均壓部件上開設有用于流體暢通的槽道，所述閥體上設置有壓力接口，所述壓力接口與所述閥體貫通連接。

流體通過壓力接口進入填料并沿著填料縫隙軸向蔓延，由于閥體和閥桿的表面光潔度以及填料自身的均勻性，有可能造成沿著填料與閥體和閥桿環向的壓力均勻性差，同一環面上會出現部分地方泄漏，部分不泄露；通過均壓部件，任何一點泄漏則整個環圈內都泄漏，這樣測試的一致性會提升很多；同時每一級的環圈起到一個匯流管的作用，在滲透到下一級時候，環圈內的壓力是一致的，這樣測試穩定性會好很多。

進一步，所述均壓部件包括通過電阻焊焊接的第一環形片和第二環形片，所述第一環形片和所述第二環形片的外側面均與所述密封填料相抵，所述第二環形片上對稱開設有同軸的第一環形缺口和第二環形缺口。所述第一環形片和所述第二環形片焊接在一起沿著徑向構成溝槽，使得整個所述均壓部件流體暢通，任何沿著環向出現泄漏點，整個溝槽內都會充滿流體，形成環向的均壓，有利于壓力測量的實施的一致性。

本實用新型的有益效果：本實用新型提供的一種控制閥閥桿填料函內腔均壓裝置，通過均壓部件提供環向的暢通槽道，實現流體暢通；任何沿著環向出現泄漏點，整個溝槽內都會充滿流體，形成環向的均壓，有利于壓力測量的實施的一致性。

附圖說明

下面結合附圖和實施例對本實用新型進一步說明。

圖1是本實用新型的結構示意圖；

圖2是均壓部件的放大示意圖；

圖3是第一環形片的結構示意圖；

圖4是第二環形片的結構示意圖；

圖中：1-均壓部件、2-閥蓋、3-閥體、4-密封填料、5-閥桿、6-壓力接口、7-第一環形片、8-第二環形片、81-第一環形缺口、82-第二環形缺口。

具體實施方式