[實用新型]氣水分離組件及氫氧發(fā)生設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202022336358.5 | 申請日: | 2020-10-20 |
| 公開(公告)號: | CN213527772U | 公開(公告)日: | 2021-06-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 張濤恭 | 申請(專利權(quán))人: | 張濤恭 |
| 主分類號: | B01D45/02 | 分類號: | B01D45/02 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 266111 山東省青島市城陽區(qū)棘*** | 國省代碼: | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 水分 組件 發(fā)生 設(shè)備 | ||
1.一種氣水分離組件,其特征在于,包括分離筒、浮體、上端蓋和下端蓋;所述上端蓋上設(shè)置有進(jìn)氣管和排氣管,所述下端蓋上設(shè)置有排水口,所述上端蓋設(shè)置在所述分離筒的上端口上,所述下端蓋設(shè)置在所述分離筒的下端口上,所述分離筒與所述上端蓋和所述下端蓋之間形成氣水分離腔體,所述浮體設(shè)置在所述分離筒中,所述浮體的底部設(shè)置有用于封堵所述排水口的封堵部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣水分離組件,其特征在于,所述浮體的底部設(shè)置有向下突出的密封堵頭,所述密封堵頭為所述封堵部。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氣水分離組件,其特征在于,所述下端蓋上還設(shè)置有多個支撐板,多個所述支撐板間隔布置并圍繞在所述排水口的外周圈。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣水分離組件,其特征在于,所述下端蓋與所述分離筒為一體式結(jié)構(gòu)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的氣水分離組件,其特征在于,所述分離筒的底部設(shè)置有外翻邊,所述外翻邊上設(shè)置有多個第一安裝口,所述下端蓋的周圈設(shè)置有多個第二安裝口;所述外翻邊貼靠在所述下端蓋上,所述第一安裝口與對應(yīng)的所述第二安裝口對齊,螺栓依次穿過所述第一安裝口和所述第二安裝口并螺紋連接有螺母。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氣水分離組件,其特征在于,所述下端蓋上設(shè)置有環(huán)形凹槽,所述外翻邊上設(shè)置有環(huán)形筋條,所述環(huán)形筋條位于所述環(huán)形凹槽中。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的氣水分離組件,其特征在于,所述環(huán)形筋條與所述環(huán)形凹槽之間設(shè)置有密封圈。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣水分離組件,其特征在于,所述排水口中設(shè)置有嵌塊,所述嵌塊的上表面形成凸起結(jié)構(gòu),所述嵌塊上設(shè)置有貫穿上下表面的貫通孔;在所述排水口處于關(guān)閉狀態(tài)下,所述封堵部抵靠在所述凸起結(jié)構(gòu)上并密封住所述貫通孔。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-8任一項所述的氣水分離組件,其特征在于,所述排氣管還連接有背壓閥;或者,所述排氣管還連接有連接氣管,所述連接氣管中設(shè)置有曝氣石。
10.一種氫氧發(fā)生設(shè)備,包括外殼以及設(shè)置在所述外殼內(nèi)部的氫氧發(fā)生組件,所述氫氧發(fā)生組件具有氫氣出口,其特征在于,還包括如權(quán)利要求1-8任一項所述的氣水分離組件;所述氣水分離組件中的進(jìn)氣管與所述氫氣出口連接。
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