[實用新型]一種高熱傳導的新型等離子源有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202022278699.1 | 申請日： | 2020-10-13 |
| 公開（公告）號： | CN213866399U | 公開（公告）日： | 2021-08-03 |
| 發(fā)明（設計）人： | 徐鳴;唐歡歡;安建昊 | 申請（專利權）人： | 江蘇微凱機械有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/34 | 分類號： | C23C14/34;H01J37/08 |
| 代理公司： | 揚州邗誠專利代理事務所(普通合伙) 32469 | 代理人： | 吳淑芳 |
| 地址： | 225000 江*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 高熱 傳導 新型 離子源 | ||
【權利要求書】：
1.一種高熱傳導的新型等離子源，包括等離子源本體(1)，其特征在于：所述等離子源本體(1)中安裝設有陽極(2)，所述陽極(2)上部設有金屬塊(3)，所述金屬塊(3)和陽極(2)之間安裝有導熱絕緣陶瓷片(4)，所述導熱絕緣陶瓷片(4)沿周邊緣延伸有凸起部。
2.根據(jù)權利要求1所述的一種高熱傳導的新型等離子源，其特征在于：所述導熱絕緣陶瓷片(4)的表面設有若干微小的凹槽(41)。
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C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
